等离子清洗机IoN 100 WB

IoN 100 WB是我们最新推出的具有高性价比的真空等离子清洗设备。它来源于IoN 100系列，IoN 100 WB延续了同样的品质保障，包括可选压力控制器、光谱终点检测器以及各种不同的电极组构造。

IoN 100 WB旨在满足客户大批量生产的需求，着重于表面处理的多功能性和可控性。其先进的性能提供了出色的工艺控制、失效报警系统和数据采集软件。这使得该设备可满足半导体、生命科学等领域严格的控制要求。IoN 100 WB结构紧凑，集成度高，采用射频（RF）频率激发等离子体。 

IoN 100 WB的另一个独特之处是可以迅速快捷的更换不同类型的电极结构。

规格参数 
工作腔室材料                                铝（标配）
容积                                             107 升
内部尺寸                                      375 x 375 x 762 mm（宽/高/深）
　　　　　　　   

工艺气体 
质量流量控制计                             最多至6路气体
工艺压力                                      200-2000 mTorr(取决于真空泵和气体流量)
抽真空时间                                   大约1分钟 (取决于真空泵)

射频电源                                      风冷13.56MHz,600 瓦(标准配置)
供给需求电源　　　　　                 220V 单相, 50Hz
工艺气体                                     输入压力 1-2 bar 
吹扫气体                                     输入压力 1-2 bar 
压缩空气                                     输入压力 4-6 bar

机体

●  独立的机体带有所有电源和气体接口
●  带有旋转垫脚的可转动机身

设备尺寸
标准尺寸                                       1067 x 737 x 1245 mm（宽/高/深，不含泵）
重量                                              约239千克（不含泵）

可选项
● 不锈钢腔体

● 压力控制器
● 1%精度的真空规
● 指示灯柱
● 条形码阅读器
● 工艺气体切换器
● 光谱终点检测器

● 耐腐蚀性气体的MFC
● 1000 瓦13.56 MHz射频发生器
● 水冷机
● 液态单体操作装置
● 真空泵（油泵、干泵或罗茨泵组）
● 汽相MFC

功能特性：
●  触摸屏操作，图形用户界面（GUI）

●  可配置的腔室可使用不同类型电极，适用于大批量处理或特殊的垂直悬挂处理

●  使用Windows系统的工业计算机控制

●  工艺员、操作元、维护员访问权限控制

●  自诊断功能和警报记录功能，联网在线诊断功能

●  以太网远程控制功能

●  工艺编辑软件提供了快速灵活的步骤控制功能

●  安装简单快捷