深圳市科时达电子科技有限公司
深圳市科时达电子科技有限公司

日本 离子束刻蚀系统Elionix

EIS-200Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、镀膜等。

EIS-200原理:

 

利用ECR技术产生高能Ar+离子束,Ar+离子束通过电场加速到达样品表面,对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。

EIS-200具有以下优点:

?   方向性好,各向异性,陡直度高,侧向刻蚀少

?   分辨率高

?   不受刻蚀材料限制,可对石英等材料进行蚀刻

?   可控制蚀刻Taper角

?   可以设定多样的实验条件

二、主要功能

l  主要应用

纳米图案刻蚀

高深宽比蚀刻

表面清洁

离子减薄

l  技术能力

离子枪

ECR型离子枪

离子化气体

Ar、Xe等、惰性离子气体

N2、O2、CF4等、活性离子气体

加速电压

100V~3000V 连续可变(高加速电压可选) (输出电流20mA MAX)

离子束流密度

Ar:1.5mA/cm2以上 (2kV加速時)

O2:2.0mA/cm2以上 (2kV加速時)

离子束有效直径

Φ20mm(FWHM35mm)

离子束稳定度

±3%/2H

大样品尺寸

Φ4英寸

 

 


热线电话 在线咨询

网站导航