安智AZ 正性光刻胶厚胶 40XT

AZ®40 XT的应用始于15-30 µm，在这个厚度范围时，由于N2脱气和再水化延迟时间，使用常规正性光刻胶的光刻工艺变得非常耗时，而AZ®40 XT可以避免这个问题 。即使对于非常大的光刻胶膜厚度，AZ®40 XT也只需要很短的软烘烤时间，不会有再水化延迟，由于其化学放大作用，曝光剂量非常小，显影速度快。 因此，与传统的厚型光刻胶相比，AZ®40 XT的加工速度要快得多。