安智AZ 热稳定高分辨率负性光刻胶薄胶 nLOF 5510

AZ®nLOF 5110是一种薄的高分辨率负型光刻胶，具有很高的热稳定性。该光刻胶用于单层剥离工艺以及RIE蚀刻或离子注入，并且与基于TMAH的显影剂兼容。使用标准的曝光、烘烤、显影等工艺流程可得到理想的图案，该光刻胶反应速率非常快，在> 200C的温度时仍具有热稳定性。