安智AZ 超厚负性光刻胶 125 nXT

AZ®125 nXT是一种交联的负性光刻胶，膜厚度可达100 µm，甚至更高（可实现1 mm的光刻胶膜厚度），具有标准的参数和非常陡峭的侧壁。 AZ®125 nXT具有高稳定性和优异的附着力，使其非常适合用于大多数需要厚膜的电镀工艺。该光刻胶既不需要曝光后烘烤，也不需要任何工艺步骤之间的延迟（例如再水化步骤，或曝光后除气的延迟）。