Allresist 紫外光刻胶 AR-N 4600 (Atlas 46)-深圳市科时达电子科技有限公司

详细信息

特点：

• 紫外负胶（厚胶），适用于 LIGA 及 MEMS应用

• 涂胶厚度 10μm@1000rpm，可提供更高厚度（200μm）

• SX AR-N 4600-10 : 结构稳定性好、重复性好，厚度可达几百

微米，适用于保留胶体结构的应用

• SX AR-N 4650-10 : 容易去胶，适合于电铸工艺

产品优势

特点：• 紫外负胶（厚胶），适用于 LIGA 及 MEMS应用• 涂胶厚度 10μm@1000rpm，可提供更高厚度（200μm）• SX AR-N 4600-10 : 结构稳定性好、重复性好，厚度可达几百微米，适用于保留胶体结构的应用• SX AR-N 4650-10 : 容易去胶，适合于电铸工艺