深圳市科时达电子科技有限公司
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电子束光刻胶 AR-PC 5090.02, 5091.02(导电胶)

特点:


• 用于消除电子束曝光、SEM成像、FIB等工艺中的荷电效应

• 通过旋涂的方式涂胶,操作简单

• 涂胶厚度:40nm @ 4000rpm

• 电子束曝光后可溶于水,非常容易去除,且不损伤衬底材料

• 对紫外光、电子束不敏感,无需黄光室

5090.02,适于PMMA、CSAR 62、 HSQ等;

5091.02,适于酚醛树脂基电子束光刻胶,如AR-N 7520


特点:• 用于消除电子束曝光、SEM成像、FIB等工艺中的荷电效应• 通过旋涂的方式涂胶,操作简单• 涂胶厚度:40nm @ 4000rpm• 电子束曝光后可溶于水,非常容易去除,且不损伤衬底材料• 对紫外光、电子束不敏感,无需黄光室 5090.02,适于PMMA、CSAR 62、 HSQ等。
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