Allresist 特殊功能光刻胶 SX AR-PC 5000/41

点：• 耐酸碱保护胶• 不含光敏物质，无需黄光室• 在40% KOH或50% HF酸中可长时间稳定• 通过双层工艺可实现正性(AR-P 3250) 或负性(AR-N 4400-05/10)光刻工艺 旋涂曲线。