上海品测精密仪器有限公司
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SMEE 200系列光刻机—TFT曝光

产品介绍：

SMEE 200系列光刻机 —— TFT曝光

SSB200系列投影光刻机采用投影光刻机平台技术，用于AM-OLED和LCD显示屏TFT电路制造，可应用于2.5代～6代的TFT显示屏量产线。该系列设备具备高分辨率、高套刻精度等特性，支持6英寸掩模，显著降低用户使用成本。

产品特征

● 高精度，分辨率可达1.5μm

● 支持小Mask，可用6英寸掩模实现12英寸屏幕制造

● 具备智能化校准及诊断功能，方便设备参数校调及用户周期性维护


主要技术参数

型号

分辨率

套装精度

基板尺寸

SSB225/10

2μm L/S

0.6μm

370mm×470mm

500mm×500mm

SSB225/220

1.5μm L/S

0.5μm

370mm×470mm

500mm×500mm

SSB245/10

 2μm L/S

0.6μm

730mm×920mm

SSB245/20

1.5μm L/S

0.5μm

730mm×920mm

SSB260/10T

2μm L/S

0.6μm

1300mm×1500mm

1500mm×1850mm

SSB260/20T

1.5μm L/S

0.5μm

1300mm×1500mm

1500mm×1850mm


SSB200系列投影光刻机采用投影光刻机平台技术，用于AM-OLED和LCD显示屏TFT电路制造，可应用于2.5代～6代的TFT显示屏量产线。该系列设备具备高分辨率、高套刻精度等特性，支持6英寸掩模，显著降低用户使用成本。
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