徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200概述
样品进行扫描电镜观察前，通常需要对其表面镀一层金属膜，以便减少观察时产生的荷电，并加强二次电子或背散射电子信号，获得更高的信噪比。
Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空、镀膜、放气等全过程，一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制，简单方便。
徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200性能
• 重现结果：运行自动化的进程，并协助参数设置
• 小巧紧凑：设计紧凑，占地面积小节省了实验室空间
• 容易清洗：具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台
• 操作简便：直观的触摸屏和一键式操作
徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200技术参数
| 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化） | |
| 脉冲式碳丝蒸发方式，可准确控制碳膜厚度 | |
| 可选石英膜厚检测器，准确控制镀膜厚度，精度达0.1nm | |
| 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程 | |
| 触摸屏控制，简单方便 | |
| 真空度≤7x10-3mbar | |
| 溅射电流：0-150mA可调 | |
| 方形样品仓ZG设计，样品仓尺寸：140mm（宽）x145mm（深）x150mm（高） | |
| 工作距离调节范围：30-100mm |
链能金相实验设备南京有限公司
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