武汉东隆科技有限公司
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XUV高反射率镜

产品特点

Mo/Si多层反射镜具有接近13纳米（90电子伏）波长的高反射率。NTT-AT公司的Mo/Si多层反射镜具有高达70％的正入射反射率。

NTT-AT公司的XUV反射镜的材料、膜结构和基板形状可以定制以满足用户有关中心波长和光学装置的需求。


主要应用

  • 天文学

  • XUV光电子光谱

  • XUV显微

  • EUV光刻

  • 等离子体物理

  • 阿秒科学

参数


基板形状：平面、凸形、凹形、抛物面、超环面、椭圆面
基板材料：石英、硅、zero dewer等
多层膜材料：Mo/Si（50eV至100eV）、Ru/Si（50eV至100eV）、Zr/Al（50eV至70eV）、SiC/Mg（25eV至50eV）、Cr/C（至300eV）等
基板尺寸：φ3毫米至φ300毫米（标准值为1英寸）
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