岩征仪器光化学高压反应釜-上海岩征实验仪器有限公司

详细信息

产品介绍：

上海岩征生产的光化学高压反应釜，使用温度300℃内，使用压力：10mpa,适用于光化学高压反应、二氧化碳（CO2）还原、二氧化碳（CO2）还原制甲醇（CH3OH）、二氧化碳（CO2）还原制甲烷（CH4）、氮氧化物（Nox）的还原降解、甲醛的高压光催化降解等领域。

细节之处见真章

岩征优势有目共睹

技术参数

名称	光化学反应釜
设备选型	YZPCR-① ①反应釜容积(ML):标准可选"100,250,500"
使用温度	≤250℃
使用压力	10mpa
搅拌转速	100-1000r/min
搅拌方式	磁子搅拌
加热形式	电加热
照射方式	顶部照射 / 侧面照射
岩征独特优势	1、压力数显功能，压力显示精度0.01mpa,psi,mpa，bar三种模式切换； 2、安全连锁保护功能：自由设置超压、超温报警值，超温超压自动报警并停止反应； 3、7英寸真彩触控操作，中英文界面，一键切换 4、顶部透光视窗，材质蓝宝石 5、led、氙灯、汞灯光源可选配 6、具备 RS485 通讯，可连电脑控制；
非标定制	温度可非标定制，压力最高到20mpa,材质可非标选择钛材、蒙乃尔，锆材，哈式合金，因科镍等；釜体功能可非标：1增加恒压加料；2、冷凝盘管，冷凝回流，收集；3、高低温油浴、熔盐；4、在线取样、过滤；5、增加阀门及采用进口阀门，可集成高压自动进气、进液，按照PID流程工艺集成整套的反应系统。
电源	~90-240V/宽电压全球通用
工作环境	-20℃～70℃，相对湿度在0% ~ 95%。

工厂风貌

核心参数

容积: 中型材质: 玻璃工作压力: 低压

产品优势

上海岩征生产的光化学高压反应釜，使用温度300℃内，使用压力：10mpa,适用于光化学高压反应、二氧化碳（CO2）还原、二氧化碳（CO2）还原制甲醇（CH3OH）、二氧化碳（CO2）还原制甲烷（CH4）、氮氧化物（Nox）的还原降解、甲醛的高压光催化降解等领域

岩征仪器 光化学高压反应釜