磁控溅射器MC1000-江苏米立特科学仪器有限公司

详细信息

日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径：60 mm
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度：20 mm

特点：
采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件
可处理较厚或较大的样品(选配件)
记忆功能可存储常用加工条件

规格：

项目		说明
放电	类型	磁控二极管放电型（电场垂直于磁场）
	电极组成	反向平行盘（嵌入磁铁）
	电压	最大0.4Kv DC（直流可变）
	电流	最大40mA DC
喷镀速率(最大）[条件] 压力：7Pa 放电电流:40mA 标靶与样品表面之间的距离:20mm	Pt靶(选配件)	15nm/min
	Pt-Pd靶（选配件）	20nm/min
	Au靶(选配件)	35nm/min
	Au-Pd靶（选配件）	25nm/min
样品尺寸	最大直径	Ф60mm
样品尺寸	最大高度	20mm
机械泵		135/162 L/min(50/60Hz)
靶材﹡²		Pt, Pt-Pd (8: 2), Au, Au-Pd(6: 4)
电源要求		单相,100VAC(±10%)15A(50/60Hz)3-针插头线缆(3m)
尺寸	宽度	450mm
	长度	391mm
	高度	390mm
重量	主机:约25Kg 机械泵:约28kg
﹡¹：喷镀速率仅供参考 ﹡²：主机内不包括靶材。请从选项中选择（鉑,铂-钯,金,金-钯)

注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或ZL等相关用途