深圳市蓝星宇电子科技有限公司
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高真空蒸发器平台,Denton 热蒸发溅射仪 DV-502B


Denton 热蒸发溅射仪DV-502B
DV-502B 高真空蒸发器平台

DENTON 真空使创新成为可能,并已超过50年。

全 球成千上万的薄膜沉积工具安装,包括一个大型的、在全 球范围内安装的精密光学沉积系统——工程师和研究人员依靠DENTON的薄膜创新驱动更高的吞吐量,更好的收益和低拥有成本(首席运营官),受益于综合服务和支持,和一个专门的研发项目,提供可行的技术。

DV-502B系统在大气和高真空之间快速循环。

83.DV-502B.jpg


DENTON 的高真空蒸发器平台

•样本准备

•R & D

•批量生产

•内联生产

•蒸发

•溅射

•PE-CVD
 

DENTON 的区别

你们的过程就是我们的过程。

我们与您合作设计一个系统,以解决您的确切薄膜涂装工艺的需要。当我们给你运送工具时,它已经准备好生产了。

•我们的系统规模可以满足您的生产需求

•我们永远相信客户

•全 球支持网络
 

在DENTON,我们关心你的成功

•专业安装可用的

•个性化培训可用

•实时支持

•CE / UL / CSA兼容系统


典型的应用

蒸发

•用于TEM和x射线分析的高真空碳涂层

•碳支持电影

•碳铂副本

•孔清洗

•旋转跟踪

•石棉分析

•电阻蒸发

•故障分析

•高纯度超薄膜

没有任何可见的污染

为电子显微镜准备样品时。

快速循环次数

不到3分钟,dv - 502 b达到10 -⁴托干净,可以排除系统中使用一个标准的12“dia x 12“高钟罩。

强大的控制系统

PLC的触摸屏界面提供以下模式的完全控制:服务模式、手动模式和半自动模式。标准软件使其易于支持和避免昂贵的定制费用。

安全联锁减轻了对操作者和设备的损害。

各种各样的金属

蒸发大部分用于光学涂层、金属化和电子显微镜样品制备的金属。常见的金属包括碳、金、金/钯和铂。

多个泵配置

各种泵的配置,可适用于您的预算和过程。
 

DV - 502B 选项


-快速循环次数
不到3分钟,dv - 502 b达到10 -⁴托干净,可以排除系统中使用一个标准的12“dia x 12“高钟罩。
-强大的控制系统
PLC的触摸屏界面提供以下模式的完全控制:服务模式、手动模式和半自动模式。标准软件使其易于支持和避免昂贵的定制费用。
安全联锁减轻了对操作者和设备的损害。
-各种各样的金属
蒸发大部分用于光学涂层、金属化和电子显微镜样品制备的金属。常见的金属包括碳、金、金/钯和铂。
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