PICOSUN 高级原子沉积机 P-300B Advanced ALD

PICOSUN  高级原子沉积机 P-300B Advanced ALD

技术参数
  。基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次（标准间距）
  。200mm晶圆25+2片/批次（标准间距）

工艺温度 ：50 - 500 °C

基片传送选件：。 气动升降（手动加载）
         。半自动装载，用线性装载器实现
         。52片晶圆盒式全自动装载，用真空批量Load lock实现

前驱体：  。液态，固态，气态，臭氧源
       。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
       。4根独立源管线，最多加载6个前驱体源

重量 ：400 + 300 kg

尺寸： (W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm

选件 ：PICOFLOW™ 扩散增强，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。

验收标准 ：标准设备验收标准为 Al2O3 工艺

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