PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-300F Pro ALD
PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-300BV Pro ALD
技术参数
。衬底尺寸和类型 200 mm 晶圆 25 + 2片/批次 (标准间距)
。150 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距)
。100 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距)
工艺温度: 50 - 300 °C
基片传送选件:
。 P-300F Pro: 27片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™200集群系统实现。
。P-300BV Pro: 52片晶圆盒对盒式全自动装载,用真空批量load lock实现
标准 。 P-300F Pro: SEMI S2 认证
。P-300BV Pro: SEMI S2 认证(认证中)
前驱体 :
。液态、固态、气态、臭氧源
。前驱源余量传感器, 并提供清洗和装源服务
。6根独立源管线,最多加载8个前驱体源
重量: 820 kg
尺寸 :(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm
选件: 集群工具, PICOFLOW™ 扩散增强器, N2发生器,尾气处理器,定制设计,与工厂软件连接服务。
验收标准: 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺,
其他工艺可具体协商:其他工艺、应用具体验收标准如
- 不均匀性
- 颗粒物含量
- 重金属污染
- 电学性能
深圳市蓝星宇电子科技有限公司
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