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奥地利EVG键合机EVG510

奥地利EVG键合机:EVG510


EVG键合系统可实现阳极键合、热压键合、中间层粘着键合、 玻璃浆料键合、硅-硅直接键合、共晶键合及SOI键合等所有键合工艺。EVG键合设备型号齐全,从手动装片系统到全自动片盒送片多工艺室系统,可以满足不同客户的应用要求。无论手动/半自动装片系统, 键合工艺全部自动完成;而且,独特的基片夹具及键合室结构设计,可实现高精度的圆片键合;此外上/下极板为独立分别加热控制,最大加热温度可达650度。

EVG510是一款半自动晶圆键合系统,可以处理最大200mm的晶圆,非常适合于研发和小批量生产。EVG510提供了除上料和下料外的全自动工艺处理过程,并配备了业界公认的最 优异的加热和压力均匀性系统。EVG510模块化的键合腔室设计可用于150mm或200mm晶圆键合,并且其工艺菜单与EVG其他更高系列的键合机相匹配,可以方便的实现从实验线到量产线的工艺复制。


应用范围

主要应用于MEMS制造、微流体芯片、化合物半导体的薄片处理、晶圆级先进封装以及3D互联、TSV工艺。


主要特点

  • 最大化降低客户成本(COO)

  • 精确的硅片低压契型补偿系统以提高良率

  • 优异的温度和压力均匀性

  • 工艺菜单与其他键合系统通用

  • 高真空度键合腔室 (可低至 10-5 mbar,使用分子泵)

  • 手动上料和下料,全自动工艺过程

  • 快速加热和抽真空过程,以提高产出

  • 基于Windows 的控制软件和操作界面


技术参数



奥地利EVG键合机:EVG510,是一款半自动晶圆键合系统,可以处理Z大200mm的晶圆,非常适合于研发和小批量生产。EVG510提供了除上料和下料外的全自动工艺处理过程,并配备了业界公认的Z优异的加热和压力均匀性系统。EVG510模块化的键合腔室设计可用于150mm或200mm晶圆键合,并且其工艺菜单与EVG其他更高系列的键合机相匹配,可以方便的实现从实验线到量产线的工艺复制。
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