原子层沉积系统

主要特点
 真空反应腔工作温度高达400℃
 PID自动控温，带模糊算法自整定
 复杂管气路可zui多具备八种前驱体、两路氧化还原气路和三路载气
 满足特殊样品（粉末）要求
 适合低蒸气压固态源的高温鼓泡器设计，有利于提高反应效率和重复性
 反应过程可自行编程，实现不同类型ALD样品生长
 全金属密封，适用于腐蚀性反应
 实时测控气体流量和监测真空度
 在线原位分析气体成分
 自带臭氧发生器，反应残留物热分解装置
 互联版可与超高真空系统互联，并兼容MBE标准旗型样品托
 系统可定制和扩展