主要优势
小巧桌上型系统
掩膜板制作及激光直写
375nm 或405nm 激光源
兼容所有光刻胶
高深宽比: 1 x 20
主要特点
系统尺寸: 550 x 670 x 700mm
电脑操控介面
可选激光源: 375 或405nm
带使光束成形及均化的光学组件
一种光束尺寸可选
高分辨率视频定位系统
支持文件格式: LWI (Kloé 设计格式),DXF 和GDS2
自动聚焦设定
自带设计软体: Kloé Design V.2
两种工作模式: 向量及扫描模式
技术指标
线性直写速率:> 100 mm/s
样品平台移动分辨率:100 nm
样品平台移动重复性:100 nm
直写范围:1 –4 寸晶圆
基底厚度:150 μm – 5 mm
激光光斑尺寸:1 μm – 50 μm
物理尺寸(Form factor) :最少 10
标准多层对准精度:1 μm
浙江扬清芯片技术有限公司
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