武汉迈可诺科技有限公司
武汉迈可诺科技有限公司

SEMI-KLEEN 等离子清洗仪

美国PIE公司出品的SEMI-KLEEN 等离子清洗仪, 可清洗各种类型电子或者离子显微镜,深紫外光刻机,电子光刻系统等真空仪器。一个仪器同时清洗真空腔体和样品。

本仪器由一个LCD触摸屏控制器和一个远程射频(RF)等离子源组成,远程等离子源通过一个KF40真空法兰连接到待清洗真空室,有转接法兰提供。主要用于清洗各种扫描电镜(SEM),透射电镜(TEM),聚焦离子系统(FIB),离子显微镜(HIM)等真空系统中碳氢及其他污染。同时清洗真空腔体和样品。

特有功能

优越的等离子技术,可以在小于0.1毫托的气压下点火并且保持稳定的等离子体。zuidi工作气压比其他同类产品低10到100倍。低气压清洗速度更快,更均匀,对电子枪和分子泵更安全;

即时等离子起辉技术。不用像在其他同类产品上那样担心等离子是不是成功起辉;

带气压计的自动气体流量控制;

等离子探针实时测量等离子强度,用户可以根据这个实时反馈来优化清洗配方;

自动射频匹配实时保证zuiyou化射频耦合,即使用户调节清洗配方;

ZG保护的双层颗粒过滤器设计保证我们的产品满足Intel,台积电,三星等半导体用户的严格颗粒污染要求;

带LCD触摸屏的直观操作界面;

微电脑控制器带可修改的智能清洗计划,设好就自动清洗您的系统;

支持清洗配方,一键开始,自动射频匹配,自动控制气体流量;

微电脑控制器记录所有信息状态,便于系统维护。

技术指标 

等离子源真空接口: NW/KF40 法兰; 提供转接法兰;

标配等离子强度传感器;

等离子源zuidi点火起辉气压:<0.1毫托;

等离子源最高工作气压: >1.0 托;

漏气率: <0.005sccm;

射频输出: 0~100瓦,连续可调节;

具有射频自动匹配功能


自动化: 自动

网站导航