武汉迈可诺科技有限公司

湿法显影腐蚀机

2018-04-25672

资料简介：
适用工艺（包括但不限于下述湿法制程）光刻胶显影（KrF/ArF） SU8厚胶显影显影后清洗 PostCMP清洗光罩去胶清洗光刻胶去除金属Lift-off处理刻蚀微刻蚀处理

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