武汉迈可诺科技有限公司
湿法显影腐蚀机
2018-04-25
696
资料简介:
适用工艺(包括但不限于下述湿法制程)
光刻胶显影(KrF/ArF)
SU8厚胶显影
显影后清洗
PostCMP清洗
光罩去胶清洗
光刻胶去除
金属Lift-off处理
刻蚀微刻蚀处理
文件大小:
1.17MB
建议WIFI下载,土豪忽略
武汉迈可诺科技有限公司
仪器网(yiqi.com)
--仪器行业网络宣传传媒
网站导航
公司首页
公司简介
公司新闻
产品文章
产品中心
全部分类
解决方案
技术资料
视频资料
资质证书
联系我们
访客留言
选购仪器 上yiqi.com
仪器网络推广
品牌网上传播
长按识别二维码查看信息详情