武汉迈可诺科技有限公司
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湿法显影腐蚀机

2018-04-25696
资料简介:
适用工艺(包括但不限于下述湿法制程)
光刻胶显影(KrF/ArF)
SU8厚胶显影
显影后清洗
PostCMP清洗
光罩去胶清洗
光刻胶去除
金属Lift-off处理
刻蚀微刻蚀处理

文件大小:1.17MB

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