EVG®620NT 掩模对准系统（半自动/自动）

EVG®620 NT  Mask Alignment System(semi-automated / automated)

EVG®620NT  掩模对准系统（半自动/自动）

EVG®620NT在zui小的占位面积（zui大150 mm晶圆尺寸）上提供了zui先进的掩模对准技术。

技术数据

EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著称，在zui小的占位面积上结合了先进的对准功能和zui优化的总体拥有成本，提供了zui先进的掩模对准技术。它是光学双面光刻的理想工具，可提供半自动或自动配置以及可选的全外壳Gen 2解决方案，以满足大批量生产要求和制造标准。操作员友好型软件，zui短的掩模和工具更换时间以及  的 服务和支持使它成为任何制造环境的理想解决方案。

 EVG620 NT或完全容纳的EVG620 NT Gen2掩模对准系统配备了集成的隔振系统，可在各种应用中获得出色的曝光效果，例如对薄而厚的抗蚀剂进行曝光，对深腔进行构图以及可比较的形貌。以及薄而易碎的材料（例如化合物半导体）的加工。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。

特征

晶圆/基板尺寸从碎片到150毫米/ 6'

系统设计支持光刻工艺的多功能性

易碎，薄或翘曲的多种晶圆尺寸的晶圆处理，更换时间短

带有间隔垫片的自动无接触楔形补偿程序

自动原点功能，用于对准键的精确居中

具有实时偏移校正的动态对准功能

支持zui新的UV-LED技术

返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统

自动化系统上的手动基材装载功能

可以从半自动版本升级为全自动版本

zui小化系统占地面积和设施要求

多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

先进的软件功能以及研发与全面生产之间的兼容性；敏捷处理和转换重组；远程技术支持和SECS / GEM兼容性；

附加功能：键对齐   红外对准   纳米压印光刻（NIL）

技术数据

曝光源：汞光源/紫外线LED光源

先进的对齐功能：手动对准/原位对准验证     自动对齐  动态对齐/自动边缘对齐

对准偏移校正算法：通量

全自动：批生产量：每小时180片

设备咨询电话：182 6326 2536（微信同号）