普拉勒 半导体行业专用氮气发生器（腔体保护气,干泵吹扫气)NITROGEN-M-100/200

产品介绍：

Peculiar针对LC/MS氮气流量、纯度、压力的特殊要求专门设计了安全、高效、方便的专用于PECULIAR(UK) INSTRUMENTTECHNOLOGY LIMITED 英国普拉勒科技有限公司LCMS氮气发生器，产生纯度高达99.5%的洁净、干燥氮气，完全符合半导体行业腔体保护气，干泵吹扫气要求，包含APCI及ESI接口。氮气发生器采用膜分离技术，无须二次净化，即可连续获得洁净、干燥、无邻苯二甲酸酯的氮气，氮气纯度和流量稳定，使用寿命长。外置涡旋压缩机提高了空气供应的安全性，流速范囤从O-10OL/min，可同时为一台或多台仪器供应氮气。特殊机型可以定制，最 大流速范围可以达到200 Lrmin。

主要技术参数

MAIN TECHNICAL PARAMETERS

流量:0-100/20OL/min @100psi ( 7bar )

工作环境:5'C-40°℃

湿度80%

使用最 高海拔:2200m

露点:<-55℃

颗粒:<0.01 u m

滞留液体:无

邻苯二甲酸:无

噪声:<47cB(A)

开机纯化时间:30min

功率:800ow

电力要求:220V 50Hz