河南诺巴迪材料科技有限公司
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等离子体增强化学气相沉积系统

设备简介:

该产品是由固态等离子源、气体质子流量控制系统、衬底控温系统、真空系统组成,采用集中总线控制技术的诺巴迪操作软件。适用于室温至1200℃条件下进行SiO2、SiNx薄膜的沉积,同时可实现TEOS源沉积,SiC膜层沉积以及液态气态源沉积其它材料。

配置详情

1. 清洗镀膜一气呵成,杜绝二次污染;

2. 上开启式结构,方便观察试样;

3. 产品采用全自动控制方式,触摸屏,数字化显示;

4. 设备一体化程度高; 

5. 稳定的射频电源,均匀的温度分布,提高成膜质量;

产品型号

NBD-PECVD1200-80ITD2ZY

电气规格

AC220V    4KW

Max温度

1200 ℃

连续温度

1150℃

加热速率

≤  20 ℃/min

射频电源

300或500W(可根据需求自选)   13.56MHz

炉管尺寸

Φ80*1200mm

沉积示意图

如图所示:此为该设备沉积过程中的示意图

控制系统

1.NBD-101EP嵌入式操作系统中英文互换图形界面,7寸真彩触屏输入,智能式人机对话模式,实时加热功率显示,非线性式样温度修正;实验报告自主生成,实验数据无限次导出。

2.实验过程更加直观,操作更加便捷;

3.具有超温报警、断偶提示、漏电保护等功能。

温度精度

+/- 1 ℃

加热元件

 

Mo掺杂的Fe-Cr-Al合金

密封系统

 

 

 

真空度:≤10Pa(机械泵-油泵、干泵可选)

压力测量与监控

 

采用数显真空计,可使设备真空度更加直观,实验结果更加准确。

供气系统

 

采用两路质量流量计精确控制气体流速,与设备集成为一体;(可扩展至多路)

净重

360KG

设备使用注意事项

1. 设备炉膛温度≥300℃时,禁止打开炉膛,避免受到伤害;

2. 设备使用时,炉管内压力表显示压力不得超过0.15MPa,以防止压力过大造成设备损坏;

3. 真空下使用时,设备使用温度不得超过800℃;

4. 供气钢瓶内部气压较高,向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在选购试验用小压力减压阀,减压阀量程为0.01MPa-0.15MPa,使用时会更加精确安全;

5.当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压 相当,保持在常压状态;

6.高纯石英管的长时间使用温度≦1100℃;

7.加热的实验时,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若JD压力表读数大于0.15MPa,必须立刻打开排气端阀门,以防意外发生(如炉 管破裂,法兰飞出等)。

服务支持

1年质保,提供终身支持(保修范围内不包括易耗部件,例如炉管和密封圈等);

24小时服务热线:。

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仪器分类: 坩埚炉
该产品具有固态等离子源、分开式反应气体进气系统,动态衬底温控,控制真空系统,采用集中现场控制总线技术的Nobody控制软件,以及友好用户操作界面来操作。适用于室温至1200℃条件下进行的SiO2、SiNx,、 SiONx a-Si薄膜的沉积,同时可实现TEOS源沉积,SiC膜层沉积以及液态或气态源沉积其它材料,尤其适合于有机材料上保护层膜和特定温度下无损伤钝化膜的沉积。 

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