| 设备简介: 该产品是由固态等离子源、气体质子流量控制系统、衬底控温系统、真空系统组成,采用集中总线控制技术的诺巴迪操作软件。适用于室温至1200℃条件下进行SiO2、SiNx薄膜的沉积,同时可实现TEOS源沉积,SiC膜层沉积以及液态气态源沉积其它材料。 |
配置详情
1. 清洗镀膜一气呵成,杜绝二次污染; 2. 上开启式结构,方便观察试样; 3. 产品采用全自动控制方式,触摸屏,数字化显示; 4. 设备一体化程度高; 5. 稳定的射频电源,均匀的温度分布,提高成膜质量; | ||||||||||
产品型号 | NBD-PECVD1200-80ITD2ZY | |||||||||
电气规格 | AC220V 4KW | |||||||||
Max温度 | 1200 ℃ | |||||||||
连续温度 | 1150℃ | |||||||||
加热速率 | ≤ 20 ℃/min | |||||||||
射频电源 | 300或500W(可根据需求自选) 13.56MHz | |||||||||
炉管尺寸 | Φ80*1200mm | |||||||||
沉积示意图 | 如图所示:此为该设备沉积过程中的示意图 | |||||||||
控制系统 | 1.NBD-101EP嵌入式操作系统中英文互换图形界面,7寸真彩触屏输入,智能式人机对话模式,实时加热功率显示,非线性式样温度修正;实验报告自主生成,实验数据无限次导出。 2.实验过程更加直观,操作更加便捷; 3.具有超温报警、断偶提示、漏电保护等功能。 | |||||||||
温度精度 | +/- 1 ℃ | |||||||||
加热元件 |
| Mo掺杂的Fe-Cr-Al合金 | ||||||||
密封系统 |
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真空度:≤10Pa(机械泵-油泵、干泵可选) | ||||||||||
压力测量与监控 |
| 采用数显真空计,可使设备真空度更加直观,实验结果更加准确。 | ||||||||
供气系统 |
| 采用两路质量流量计精确控制气体流速,与设备集成为一体;(可扩展至多路) | ||||||||
净重 | 360KG | |||||||||
设备使用注意事项 | 1. 设备炉膛温度≥300℃时,禁止打开炉膛,避免受到伤害; 2. 设备使用时,炉管内压力表显示压力不得超过0.15MPa,以防止压力过大造成设备损坏; 3. 真空下使用时,设备使用温度不得超过800℃; 4. 供气钢瓶内部气压较高,向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在选购试验用小压力减压阀,减压阀量程为0.01MPa-0.15MPa,使用时会更加精确安全; 5.当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压 相当,保持在常压状态; 6.高纯石英管的长时间使用温度≦1100℃; 7.加热的实验时,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若JD压力表读数大于0.15MPa,必须立刻打开排气端阀门,以防意外发生(如炉 管破裂,法兰飞出等)。 | |||||||||
服务支持 | 1年质保,提供终身支持(保修范围内不包括易耗部件,例如炉管和密封圈等); 24小时服务热线:。 |
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