通用迷你温控探针台 真空腔

mimi型温控探针台，可集成到各种光学设备

可编程控温，涵盖-190℃~1000℃（具体由型号而定）

适用 10 mm ~ 50 mm 晶圆和器件

可抽真空的腔体，亦可充入保护气体使用

独立的四个探针，可从设备外部移动探针进行点针

可从温控器或电脑软件控制，可提供软件SDK

*可做定制或改动，详询上海恒商

温度范围

-190℃~400℃（负温需配液氮制冷）

加热块材质

银

传感器/温控方式

升温速率

100Ω铂RTD / PID控制（含LVDC降噪电源）

120℃/min（at 100℃）

温控速度

±0.01℃/min

温度分辨率

0.01℃ RTD传感器

温度稳定性

±0.05℃（>25℃），±0.1℃（<25℃）

软件功能

可设温控速率，可设温控程序，可记录温控曲线

探针

默认为铼钨材质的弯针探针

探针座

可从外部XYZ移动的探针臂

粗调模式+微调模式，微调行程2mm

点针

从外部移动点针，每个探针座都可点到样品区上任意位置

探针接口

默认为BNC接头，可选三同轴接口

样品台面电位

默认为电接地，可选电悬空（作背电极），可选三同轴接口

适用光路

反射光路

窗片

可拆卸与更替的窗片

物镜工作距离

12 mm  *截面图中WD

上盖窗片观察

窗片范围φ50mm，视角±40°  *截面图中θ1

负温下窗片除霜

吹气除霜管路

适用样品

10 mm ~ 50 mm 直径 （标准）

样品腔高

8 mm

探针座

可从外部XYZ移动的探针臂

粗调模式+微调模式，XY粗调20mm

XY微调行程10mm,Z微调 3mm

气氛控制

真空腔，也可充入保护气体

外壳冷却

可通循环水，以维持外壳温度在常温附近

台体尺寸/重量

300 mm x 300 mm x 40 mm / 4kg

基本配置

真空型台式探针台、mK2000B温控器

可选配件

安装支架、液氮制冷系统、外壳循环水冷系统、显微镜头、

真空系统、测试源表、三同轴BNC、台面电悬空、样品接电引线

TP102SV-MPS

温度范围 -40℃ ~ 180℃，样品区,40mm*40mm

HCP421SV-MPS

温度范围 -190℃ ~ 400℃，样品区 28mm*30mm

HCP402SV-MPS

温度范围 -190℃ ~ 400℃，样品区 50mm*50mm

HP1000SG-MPS

温度范围 35℃ ~ 1000℃，样品区 25mm*25mm,气密腔室

定制型号

按客户需求定制，适用300mm晶圆样品

表征薄膜、二维材料、纳米材料和分子/有机材料器件的电性能测试

需要加热块表面电接地、接同轴BNC接口、三同轴BNC接口的

需要钨铼探针、铍铜探针或其他材料的探针的

需要从外部对台体内探针进行XYZ移动的

晶圆、半导体器件、集成电路、印刷电路板、光伏板、LCD/LED测试

测量IV和CV特性、击穿电压、漏电流、电阻、介电常数和二极管效率