Park NX-HDM 原子力显微镜

毫无争议的zui佳原子力显微镜-自动缺陷检查和表面粗糙度测量

更高的通量，自动的缺陷检查

对于媒介和基体领域的工程师而言，识别纳米级缺陷是一个非常耗时的工作。Park NX-HDM原子力显微镜系统可借助数量级实现自动缺陷识别、扫描和分析，从而加速缺陷检查过程。Park NX-HDM可与众多的光学检查工具直接连接，这意味着自动缺点检查通量大幅提高。

次埃米表面粗糙度测量

行业对于超平媒介和基体的要求越来越高，从而满足体积不断减小的设备需求。此外，Park NX-HDM拥有精确的次埃米表面粗糙度测量功能。凭借着行业zui低的本底噪声和独特的True Non-Contact™技术，Park NX-HDM毫无疑问是市面上表面粗糙度测量zu精确的原子力显微镜。

* 应用

- 媒介和基体自动缺陷检查

更高的通量，自动的缺陷检查

NX-HDM的自动缺陷检查功能(Park ADR)可加速和改良识别、扫描和分析媒介和基体缺陷的流程。借助光学检查工具提供的缺陷位置图，Park ADR可自动定位这些位置并进行成像（分两步）： 

（1）缩小扫描成像，以准确定位缺陷。

（2）放大扫描成像，以获取缺陷的细节。在真实缺陷测试中，我们可以看到相比于传统的方法，该自动功能可将缺陷检查通量提高到10倍。

自动搜寻式扫描和放大扫描

经过优化的扫描参数让两步式扫描更为快速： 

（1）快速的低分辨率搜寻式扫描，以准确定位缺陷。

（2）高分辨率的放大扫描，以获取缺陷的细节。扫描尺寸和扫描速度参数可调节，从而满足用户需求。

缺陷坐标图自动传入和映射至原子力显微镜

借助独有的先进映射算法，从自动光学检测(APO)工具中获取的缺陷坐标图可准确地传入和映射至Park NX-HDM。该技术让全自动高通量缺陷成像成为可能。

光学检测工具的缺陷坐标图

- 精确的次埃米表面粗糙度测量

次埃米表面粗糙度测量

行业对于超平媒介和基体的要求越来越高，从而满足体积不断减小的设备需求。此外，Park NX-HDM拥有精确的次埃米表面粗糙度测量功能。凭借着行业ZD的本底噪声和独特的True Non-Contact™技术，Park NX-HDM毫无疑问是市面上表面粗糙度测量zui精确的原子力显微镜。

* 技术特点

全自动图形识别

借助强大的高分辨率数字CCD镜头和图形识别软件，Park NX-HDM让全自动图形识别和对准成为可能。

自动测量控制

自动化软件让NX-HDM的操作不费吹灰之力。测量程序针对悬臂调谐、扫描速率、增益和点参数进行优化，为您提供多位置分析。

自动化软件会按照测量文件中预设的程序进行样品测量。Park的用户友好型软件界面让用户可灵活执行全系统功能。创建新测量文件只需要10分钟左右的时间，而修改现有的测量文件则需要不到5分钟的时间。

Park NX-HDM具有： 

·自动、半自动和手动模式 

·各自动程序的可编辑测量方法 

·测量过程实时监测 

·自动分析所获取的测量数据

二维柔性导引扫描器，超大的100 μm x 100 μm扫描范围

XY轴扫描器含有对称的二维柔性和高强度压电叠堆，可在保持平面外运动最少的情况下，实现高正交运动以及纳米级样品扫描下的高响应度。

闭环式XY轴扫描器带双轴伺服系统

XY轴扫描器的各轴上配有两个对称的低噪声位置感应器，得以在zui大的扫描范围和样品尺寸下保持高正交扫描。双感应器能够修正和补偿单感应器引起的非线性和非平面位置误差。

高速Z轴扫描器，扫描范围达15 μm

借助高强度压电叠堆和柔性结构，标准Z轴扫描器的共振频率高达9 kHz以上（一般为10.5 kHz）且探针的Z轴移动速率不低于48 mm/秒，让信息反馈更为准确。zui大Z轴扫描范围可从标准的15 μm扩展至40μm（可选购的远距离Z轴扫描器）。

低噪声XYZ轴位置传感器

行业领先的低噪声Z轴探测器替代Z电压，作为样貌信号。此外，低噪声XY闭环扫描可将正向扫描和反向扫描间隙降至扫描范围的0.15%以下。

行业ZD的本底噪声

 为了检测最小的样品特征和成像最平的表面，Park推出行业本底噪声ZD（< 0.5?）的显微镜。本底噪声是在“零扫描”情况下确定的。当悬臂与样品表面接触时，在如下情况下测量系统噪声：

·0 nm x 0 nm扫描范围，停在一个点

·0.5增益，接触模式 

·256 x 256像素

离子化系统

离子化系统可有效地消除静电电荷。由于系统随时可生产和位置正离子和负离子之间的理想平衡，便可以稳定地离子化带电物体，且不会污染周边区域。它也可以消除样品处理过程中意外生成的静电电荷。