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椭圆偏振光谱仪测量薄膜厚度原理

2024-07-17176

椭圆偏振光谱仪(Ellipsometer),简称椭偏仪,作为一种先进的光学测量工具,以其无损、非接触的独特优势,在薄膜厚度测定、光学常数分析以及材料微结构探索等方面展现出卓越的性能,因此被广泛应用于物理、化学、材料科学、微电子学等众多科研与工业领域。本文将详细介绍椭偏仪的基本原理、测试流程、仪器构造及其特点与优势。


一、椭偏仪基本原理

椭偏仪的核心工作原理是基于椭圆偏振法(Polarization Analysis)。简而言之,光与物质相互作用时其偏振状态会因薄膜的物理特性(如厚度、折射率及吸收系数)而发生特异性改变。椭偏仪通过精确测量反射光的偏振状态变化,通过复杂的数学模型与算法,逆向解析出薄膜的精确厚度及一系列关键光学参数。

如图1所示,入射光束可以分解为p光(平行于光波振动方向)和s光(垂直于光波振动方向),二者的振幅分别用Eip和Eis表示,反射系数分别记为rp和rs。入射光经过薄膜的反射后,p光和s光的振幅分别变为Eiprp和Eisrs,相应的相位分别变为δrp和δrs。从图1中可以看出光矢量末端的运动轨迹是两个振动方向相互垂直的偏振光叠加的结果,由于其轨迹形状为椭圆状,故称为椭圆偏振光。

由此,入射光和反射光偏振态的变化可以用p分量和s分量的反射系数之比来表示:

ρ= rp/rs=tanΨ?eiΔ                          ①

ρ:菲涅尔反射系数比;

Δ、tanΨ:椭偏参数。(Δ表示p光分量和s光分量的相位差,即Δ= δrp - δrs,tanΨ则表示反射后两个分量振幅比,即tanΨ=Erp/Ers)。

图1. 椭圆偏振光轨迹原理示意图


两线偏振光的振幅比tanΨ和相位差Δ直接影响着偏振的振幅和方向,因此只要已知振幅比和相位差就可以表示出任一光波的偏振态,反之亦然。由式①可知,振幅比和相位差与菲涅尔反射系数rp和rs相关,而rp和rs又与薄膜的光学常数(折射率n,消光系数k)及薄膜的厚度d有关,即振幅比和相位差是关于参数(n,k,d)的函数。因此,若测出经薄膜反射的反射光的椭圆偏振态,就可以求得薄膜的光学常数和厚度,这就是椭圆偏振光谱测量的基本原理。


其中Δ和tanΨ是椭偏测试中能够获得的测试数据,参数(n,k,d)的解析需要通过“假设试探解+正向递归拟合”的方法。如图2所示,在对测试数据进行解析时,需要构建待测薄膜的物理模型,根据所属材料类别,对其光学常数、厚度进行合理假设,作为初始试探解,利用薄膜光传输理论,借助最小二乘法等拟合技术,实现对所测(Ψ, Δ)数据的拟合,并在不断的反馈优化中,获得(n,k,d)的最优解。


图2. 椭偏仪分析材料光学性质的基本流程


二、椭偏仪的仪器构造

椭偏仪主要由光源、偏振器、补偿器、样品台、检测器及数据处理系统组成:

光源(Light source):光源是椭偏仪的重要组成部分,用于提供稳定的光束,照射样品并产生反射或透射光。目前常用的光源包括Xe灯、Hg-Xe灯或激光(如HeNe激光)等。

起偏器(Polarizer):起偏器是椭偏仪中的核心部件,主要用于产生偏振光线。通过调节起偏器的偏振方向,可以控制入射光的偏振状态。

补偿器(Retarder用于精确控制光波的相位延滞。补偿器通常由反折射薄片或抛光的斜方形晶体构成,可以产生精确的相位差,从而改变反射光的偏振态。 

样品台(Sample Stage):用于放置和固定待测样品,确保测量过程中的稳定性和一致性。

检偏器(Analyzer):用于分析经过样品后光的偏振状态。检偏器与起偏器配合工作,通过旋转或调制来测量不同角度下的偏振态变化。

探测器(Spetrometer):是用于记录和显示光学信号的部件。它可以根据需要选择单通道或多通道检测器,测量偏振状态、光强度、光电流等参数。常用的探测器有光电倍增管、硅光电池和InGaAs等,它们对不同性质的光波的敏感度不同。


图3展示了ULVAC-UNECS椭偏仪的构造组成,通过这些组件的协同工作,实现对材料光学性质的高效测量和精确分析。

图3. UNECS椭偏仪的构造及工作过程示意图


三、椭偏仪测量膜厚的特点

纳米级高精度椭偏仪的测量精度非常高,可以达到纳米级,甚至能探测到单原子层的厚度变化。

非接触无损检测:椭偏仪通过测量光在介质表面反射前后的偏振态变化来获取信息,无需与样品直接接触,因此不会对样品造成损伤。

测量范围广:可以测量透明膜、无膜固体样品、多层膜、吸收膜等多种类型的薄膜,且能覆盖从1纳米至数十微米的广泛厚度区间。此外,其对于尺寸微小至0.3mm的薄膜样品同样具备出色的测量能力。

高效快速测量:椭偏仪测试十分迅速,最高速可实现20 毫秒/点,能够在短时间内完成大批量样品的测试。

多功能性:椭偏仪既能测量膜厚,还可以同时测量薄膜的折射率、吸收系数等物理量,是薄膜材料研究的利器。


椭偏仪作为光学测量领域的精密仪器,其核心在于能够精准分析椭圆偏振光在材料表面反射时的细微变化,并借助高尖端的数据处理算法,从而深入揭示材料的光学本质,包括薄膜厚度、折射率以及消光系数等。总之,椭偏仪已然成为相关科研、工业界不可或缺的测量手段,不仅极大地丰富了材料科学的研究维度,还在推动科技进步、促进产业发展方面发挥着不可估量的重要作用。


参考文献

  1. https://showcase.ulvac.co.jp/cn/solution/technology/unecs.html

  2. 朱绪丹.椭圆偏振光谱测量技术及其在薄膜材料中的应用.中国光学, 2019, 12(9):1195-1234.

  3.  齐姣.广义椭偏技术的薄膜测量及误差修正方法研究.中北大学




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