产品特点:
?椭圆偏振术测量紫外光到可见光波长椭圆参数。
?0.1nm以上奈米级光学薄膜厚度测量。
?400波长以上多通道分光的椭偏仪,高速测量椭圆偏光光谱。
?可自由变换反射测量角度,得到更详细的薄膜解析数据。
?非线性最小平方法解析多层膜、光学常数。
产品规格:
膜厚测量范围 | 0.1nm~ |
波长测量范围 | 250~800nm(可选择350~1000nm) |
感光元件 | 光电二极管阵列512ch(电子制冷) |
入射/反射角度范围 | 45~90o |
电源规格 | AC1500VA(全自动型) |
尺寸 | 1300(H)×900(D)×1750(W)mm |
重量 | 约350kg(全自动型) |
应用范围:
■半导体晶圆
?电晶体闸极(Gate)氧化薄膜、氮化膜,电极材料等
?SiO2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al2O2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN
?光阻剂光学常数(波长色散)
■化合物半导体
?AlxGa(1-x)As多层膜、非结晶矽
■平面显示器
?配向膜
?电浆显示器用ITO、MgO等
■新材料
?类钻碳薄膜(DLC膜)、超传导性薄膜、磁头薄膜
■光学薄膜
?TiO2、SiO2、多层膜、抗反射膜、反射膜
■平版印刷领域
?g线(436nm)、h线(405nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)等于各波长的n、k值评价
应用范例:
非线性最小平方法比对NIST标准样品(SiO2)膜厚精度确认
上海瞬渺光电技术有限公司
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