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我们Z近开发了一个独特的系统,该系统旨在监控用于CMP 处理的胶体浆料的 粒径分布(PSD)的大颗粒尾部。基于单粒子光学传感(SPOS)技术,我们的 AccuSizer 780 / OL 工具可产生具有前所未有的精度和分辨率的异常颗粒的颗粒 计数与直径数据,这些异常颗粒可能会在抛光过程中在晶片表面造成缺陷,并且 存在的量不一在所有浆液源中与整体方法不同,例如激光衍射(将亚微米范围内 的Mie 散射与大于1 微米的Fraunhofer 衍射结合在一起),SPOS 技术仅对总粒 子数量的一小部分做出响应-通常大于0.5 微米的粒子。但是,与激光衍射不同, SPOS 方法可产生真实的分布,一次堆积一个粒子,而没有严重困扰激光衍射的 严重伪影。很容易揭示出大粒子离群点(通常是较小的基团的团聚体)浓度的细 微变化,这些细节对于评估CMP 浆料的质量至关重要,通常通过诸如激光衍射 或超声衰减之类的整体方法会完全忽略掉这些细节.
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