化学机械抛光/平面化（CMP）

       新的FX 传感器使用聚集光束来减少检查的总体积，从而提高了传感器的浓度限制，通常允许在不稀释的情况下进行测量。FX 传感器测量粒子0.65μm- 20 μm 标准200 倍浓度消光或散射传感器。结果可以显示在多达512 个大小通道。