为什么检测CMP研磨液中Large Particle Count(LPC)如此重要?(下)
2024-08-23122全文分为上下两篇。此篇为下篇,共 5632 字,阅读大约需要 18 分钟;
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前文回顾
上篇,我们系统介绍了化学抛光技术(CMP)技术、LPC对CMP工艺的影响、控制研磨液中的大颗粒技术(LPC)对确保晶圆表面质量和提高产品良品率的重要性。特别是随着工艺向更小的纳米级发展,对LPC的检测精度提出了更高的要求。
在本篇,我们将讲究LPC检测的技术难点(包括高浓度样品干扰和大颗粒计数量化问题),并提出自动稀释技术和高灵敏度的单颗粒光学传感技术(SPOS)解决方案,奥法美嘉可提供从原材料到CMP slurry制造端的整套LPC监控方案,以优化工艺参数和保证设备稳定运行。
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LPC 检测的难点
光散射原理:光线通过不均匀介质时与颗粒产生相互作用,发生吸收、反射、折射、透射和衍射等现象而使光线偏离原先的光路。如下图所示。[1-3]
静态光散射法(Static light scattering,SLS)是采用光电探测器收集散射光的光强、能量等信号后,依据散射原理对信息进行计算解读从而获取颗粒尺寸信息的测量方法。这种方法获取的是一次得到的瞬时信息,因此称为静态法。 动态光散射法(Dynamic light scattering, DLS) 是通过测量光强随时间的变化来实现粒度测量的,在更早的文献中也称作光子相关光谱(PCS)和准弹性光散射(QELS)。
动态光散射原理图
静态和动态光散射法有着各自的优缺点,如下表所示:
方法 | 静态光散射法 | 动态光散射法 |
优点 | 范围广,速度快,重复性高,可在线测量。 | 精准、稳定,对尺寸分布范围窄的颗粒测量分辦率达到较高精度。 |
缺点 | 仅限于稀释液体中的颗粒测定,在高密度介质中的多次散射会导致误差;仪器体积大,价格高,操作复杂,维护频繁。 | 大颗粒的存在会严重影响尺寸精度,不适用于测量多分散样品。 |
自动稀释原理图 (一步动态稀释) | 自动稀释原理图 (专利的二步稀释) |
更强的抗堵塞能力:通过对流体通道设计优化,拓宽的Flow Cell设计能够处理高粘度样品,减少堵塞风险。 更高的检测效率:利用特殊的光学检测方法,创新的采用Focus Beam,即聚焦光束的方式,可以使得传感器的浓度上限至106颗/ml ,能够在高浓较粘的环境下依然准确捕捉颗粒信息。 针对性的数据处理算法:采用适应性强的算法,通过标准粒子及研磨液样品对系统进行校正,确保数据的稳定性和可靠性。
FX传感器示意图 | FXnano传感器示意图 |
FX传感器及FXnano传感器示意图
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LPC检测的整体解决方案
CMP slurry的制造商:对于CMP slurry的制造商而言,Lab型设备即是其产品质量确认的裁判,检测判定是否满足出厂要求。更重要的是一个“教练”角色,可以通过检测LPC的数据来合理优化其生产、制备工艺。如配方的调整、如制备设备的选择、如制备工艺参数的优化等等。为CMP slurry的研发、制备、质检保驾护航。 CMP slurry使用方的原料监控和根因分析:CMP slurry使用法可以通过对于来料的检验来确保供应商提供的产品符合其质量控制要求。另外,更重要的是,当出现工艺异常或产品缺陷时,lab型设备能够帮助工程师进行详细的根因分析,找出问题的源头并提供修正建议。 CMP slurry使用方的研发和工艺优化:在工艺开发阶段,lab型设备可以对CMP工艺参数进行详细研究,提供深入的不同工艺参数下各个点位的LPC数据分析,从而帮助优化CMP工艺。诸如滤芯、管阀件、泵的选型;滤芯寿命的确认;研磨压力,CMP slurry流速等等参数的设置。
实时过程监控:在CMP生产过程中,online型设备可以实时检测和反馈粒子浓度,帮助工程师迅速发现并纠正工艺波动,减少因工艺偏差引起的质量问题。
自动化生产控制:对于大批量生产,online型设备能够与工艺控制系统集成,实现自动化生产控制,确保每个批次的产品都能符合质量标准,减少人工干预。
成本和时间效率:在线监控能够大幅度降低检测和处理的时间成本,提高整体生产效率,特别适用于生产速度要求高的工厂环境。
通过结合lab型和online型检测设备,可以为客户提供一个综合性的解决方案,解决他们在不同阶段遇到的痛点。Lab型设备提供了详细分析和优化工具,适合深度研究和问题根因分析;而online型设备则确保了生产过程的稳定性和高效性,适用于实时监控和自动化控制。这两种设备的相辅相成,可以为客户提供更高的工艺可靠性和产品质量,满足不同阶段的需求。 Entegris生产的AccuSizer系列颗粒计数器(原美国 PSS 粒度仪公司)采用单颗粒光学传感技术(Single Particle Optical Sizing,SPOS)和自动稀释技术,检测范围从纳米级到微米级,不仅能给出粒径大小,还能对样本中颗粒数目进行定量计数。尤其能精准地计数出对于光散射和激光衍射方法检测不到的极少数的大粒子(Large Particle Count,LPC)。专利的自动稀释技术解决了其他技术手段无法解决的对高浓度样本进行颗粒计数的难题。另外,AccuSizer Mini系列在线大颗粒计数器,可用于产线实时监测LPC变化,省时省力。Entegris提供从Fab POU端到CMP slurry制造端整套的LPC监控解决方案。
Entegris提供从Fab POU端到CMP slurry制造端整套LPC监控方案
(蓝色-Lab型颗粒计数器;红色-Online型颗粒计数器)
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参考文献
[1] Li Y , Liu Y , Wang C ,et al.Role of Dispersant Agent on Scratch Reduction during Copper Barrier Chemical Mechanical Planarization[J].ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2018, 7(6):P317-P322.DOI:10.1149/2.0101806jss.
[2] https://en.wikipedia.org/wiki/Particle_size_analysis
[3]隋修武,李瑶, 胡秀兵,等. 激光粒度分析仪的关键技术及研究进展[J].电子测量与仪器学报, 2016(30):1459.
[4]https://en.wikipedia.org/wiki/Rayleigh_scattering
[5]https://www.nanoscience.com/techniques/scanning-electron-microscopy/
[6]https://lab.jgvogel.cn/c/2023-12-12/1353736.shtml
[7]Entegris Application Note Detecting Tails in CMP Slurries.
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展望
LPC(Large Particle Count)检测在半导体CMP工艺中具有重要意义。通过控制研磨液中的大颗粒数量,可以有效提高晶圆表面平整度,减少缺陷,保证抛光速率和均匀性,减少设备和材料损耗。随着检测技术的发展,LPC检测的精度和效率不断提高,为CMP工艺的优化和质量控制提供了有力支持。
未来,随着半导体工艺的不断进步,对研磨液的要求也将越来越高。LPC检测作为研磨液质量控制的重要手段,将在CMP工艺中发挥更加重要的作用。通过不断优化LPC检测技术,半导体制造企业可以进一步提高产品质量和生产效率,在激烈的市场竞争中占据有利地位。
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