水中总有机碳（TOC）分析仪

水中总有机碳（TOC）分析仪

　　1、高精度、高灵敏度，操作简单。

　　2、人性化操作界面，有一键运行功能，自动管路清洗功能。

　　3、高性能CPU，触摸屏设计，超大640*480点阵真彩显示器。

　　4、不用拆开机箱更换UV灯和泵管。

　　5、检测上限可设定，自动上限报警功能。

　　6、具有RS232数据接口，历史数据可存储6个月。

　　7、离线检测和在线检测可选配。

　　8、具有打印功能

水中总有机碳（TOC）分析仪

测试要点：

①先将水样加酸酸化至pH值小于2，通入氮气曝气，使无机碳酸盐转变为二氧化碳并被完全吹脱。

②邻苯二甲酸氢钾作为水中有机物的标准试剂，通常要求先配制成浓度为400mg/L(以C计)的储备液。

③由标准储备液逐级稀释配制不同浓度的有机物标准系列溶液，注人燃烧管，根据吸收峰高与对应浓度的关系，绘制标准工作曲线

1. 载气Ⅰ通过压力调节器后与来自注射泵的试剂、来自注射泵及分配阀的水样混合后共同进入搅动环路，并进行充分的酸化反应。水样中的无机碳在磷酸的作用下转化成二氧化碳气体然后从气/液分离器口逸出。水样中的有机碳与试剂中的过硫酸钠进入反应器。在紫外光和过硫酸钠的氧化作用下，有机碳转化成二氧化碳气体。

2. 载气Ⅱ通过流量计进入反应器，带动二氧化碳气体进入冷凝器。冷凝后的二氧化碳气体进入电子制冷器进一步降温至6℃，从而达到气／水分离的目的，消除水分对测定值的影响。

电导率水质自动分析仪技术要求

HJ/T 98-2003

浊度水质自动分析仪技术要求

HJ/T 99-2003

溶解氧(DO)水质自动分析仪技术要求

HJ/T 100-2003

高锰酸盐指数水质自动分析仪技术要求

HJ/T 101-2003

氨氮水质自动分析仪技术要求

HJ/T 102-2003

总氮水质自动分析仪技术要求

HJ/T 103--2003

总磷水质自动分析仪技术要求

HJ/T104-2003

总有机碳(TOC)水质自动分析仪技术要求

以上标准为推荐性标准，由中国环境科学出版社出版，自2003年7月1日起实施。总有机碳(TOC)水质自动分析仪技术要求

1范围

本技术要求规定了地表水、工业污水和市粒污水中的总有机碳(TOC)水质自动分析仪的技术

性能要求和性能试验方法，适用于该类仪器的研制生产和性雷检验。

2规范性引用文件

下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注目损的引用文件，其随后房

有的修改单(不包括带误的内容)成修订版均不适用于本标准，然面，教励本标准达成协议的各方

研究是否可使用这些文件的新版本。只悬不注日期的引用文件，其新激本适用于本标准。

GB 13193-91水质总有机碳(TOC)的制定非分散红外线吸妆法

3术语和定义

下列术语和定义适用于本标准。

3.1试样

指导入自动分析仪的地表本、工业污水和市政污水，

3.2校正森

为了获得与试样TOC浓座相同指示值所配制的校正液，有以下几种

3.2.1 零点校正液。

3.3.2录程较正液。

3.3要点漂档

指采用本技术要求中规定的零点校正液为试样连续测试，自动分析仪的指示值在一定时间内变

化的大小。

3.4量程原移

指采用本标准中规定腔前程校正液为试样述锁测试，相对于自动分析仪的割定量程，仅器指示

值在一定时间内变化的大小。

3.5问歌式

指将除去无机碳以后的试样以一定的时传间隔导入反应检测单元的方式。

3.6连续式

指将除去无机病以后的试样以一定的流量导入反应检测单元的方式，

3.7 平均无故障击续运行时间

指自动分析长在投验瓶间的屏运行时间(h)与发生故障次数(次》的比值，以“MTBF”表示，

单位为;上/衣。

3.8 响应时间(T)

从零点蚁正液移人惫程校正複至到达量程校正鞭90%所需要的时间(min)。

4 原理

4.1干式氧化原理指填充铂系、氧化铝系、钻系等椎化剂的燃烧背保持在680-1000℃，将由载

气导人的试祥中的TOC燃烧氧化。于式氟化反应非常采用的方式有两种，一种是将载气连续道入燃

特此公告。在饮用水行业，目前执行的是卫生部2006年发布的本标准的全部技术内容为强制性。

本标准自实施之日起代替GB5749-1985《生活饮用水卫生标准》。

本标准与GB5749-1985相比主要变化如下:

---水质指标由GB5749-1985的35项增加至106项,增加了71项;修订了8项;其中:

a)

微生物指标由2项增至6项,增加了大肠埃希氏菌、耐热大肠菌群、贾第鞭毛虫和隐孢子

1.检测制药工业中纯化水、注射用水和高纯水中总有机碳的浓度；

· 

2.半导体行业、电厂、科研单位、制药行业、化工行业等超纯水TOC的检测；

· 

3.在线监测制药工业的制水系统、半导体工业的超纯水制备系统和晶片工艺过程、电厂去离子水制备过程等。