X射线光电子能谱分析仪(XPS)

测试原理：

XPS的原理是用X射线去辐射样品，使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来。被光子激发出来的电子称为光电子。可以测量光电子的能量，以光电子的动能/束缚能（binding energy，Eb=hv光能量-Ek动能-w功函数）为横坐标，相对强度（脉冲/s）为纵坐标可做出光电子能谱图。从而获得试样有关信息。

1.  测试项目：全谱，精细谱，价带谱，XPS深度刻蚀、微区XPS、二维成像

2.  样品要求：（需提供样品含有的元素，包括氧）

块状和薄膜样品，需标记好测试面（表面平整，样品干燥），长宽小于10mm，高度小于3mm(Z佳尺寸小于5×5×2mm，大尺寸样品需确认)；（块体/薄膜样品表面请用乙醇擦拭干净或抽真空来样，接触空气容易受C，N，O，Si等元素污染） 

粉末样品，不少于10mg(样品需干燥)；

磁性样品可测试，需在测试前沟通。

XPS深度刻蚀需提供：提供详细测试过程，刻蚀要求。如刻蚀能量、刻蚀次数、单次刻蚀时间等要求，如2kV能量，速率0.1nm/s，单次刻蚀300s后，总计刻蚀4次，采集刻蚀前、后的谱图；

微区XPS需提供：测试区域200~300um或100~200um或50~100um或10~50um

3.  应用范围：用于各种有机和无机固体材料的表面元素和其价态的定性，定量分析，可用于腐蚀，摩擦，浸润，粘接，催化，包覆，氧化等表面和界面过程的研究。

定性：元素种类及价态信息（可以分析除H和He以外的所有元素）

定量：半定量，属于表面灵敏型测试

成像：元素XPS二维成像