全自动原子层沉积系统(ALD)

Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学，05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止，Veeco在ALD设备已有15年多的经验，全球已安装五百多台ALD设备。

Firebird Batch Thermal ALD System

​方式: Thermal batch ALD

优势:完全自动化的批量生产系统，**生产能力（每月最多40000片），zuidi的成本，最高的产量，极优的一致性针对脆弱/温度敏感的衬底解决方案，包括LNO/LTO/玻璃模块化热管理，以实现**工艺灵活性和产量

薄膜: 氧化物薄膜，包含封装层、光学涂层氧化物薄膜，包含封装层、光学涂层

反应腔体大小:  无缝晶片尺寸转换能力高达300mm