PVA TePla America - 等离子表面清洗系统

产品简介

全新!

INLINE高产量PECVD系统 (Inline High Capacity PECVD Systems)

ILHC是一个连续的高速真空等离子系统。它提供了等离子体辅助化学气相沉积(PECVD)，蚀刻，清洗和活化在高生产环境全过程控制。

ILHC是为了满足广大客户的高产能量的要求。它提供了快速的工艺处理时间，卓越的均匀性和精确的厚度控制。它提供先进的过程控制，故障安全报警和完整的数据采集和报告软件系统。

ILHC使用射频(RF)产生的等离子体，结合独特的传送系统中清楚地阐明和完全集成封装。该设计便于安装和维护。

特性:

• 连续流处理
• 定制托盘和基板夹具
• 可配置的等离子源设计从小到大可扩展
• 三维零件或超高容量小零件加工
• 根据工艺要求，灵活地用RF功率发生器和AMU
• GUI图形用户界面软件符合CFR第21部分11和Semi E95-1101
• 自家开发的用户访问控制系统
• 可准确地控制Lot-to-Lot的重复性
• 通过以太网远程统计过程控制监控
• 具即时诊断功能和警报记录
• 配方编辑器提供了快速和灵活的步控制功能
• 大LCD触摸设置，Windows®的控制面板和键盘
• 免人手操作

可进行多种类界面

* 输出功率高达 ： 每月500,000 devices （基本尺寸 ：1” x 1” Devices）

* 根据界面的形状： ​非均匀性降低至5%

IoN 3B特性:

腔室尺寸(W x D x H): 140mm x 200mm x 110mm
功率: 100 Watts
气体喷淋: Integrated door
单个气体管路: Mass Flow Controller for gas control, 50 sccm
可视窗口: 45mm dia.
显示屏: 7" touch screen, PC Interface
编程控制: Upto 10 receipies with 10 steps can
压力测量: Pirani Gauge

特性:

腔室尺寸(W x D x H): 200mm x 220mm x 160mm
功率: 200 Watts
气体喷淋: Integrated door
单个气体管路: Mass Flow Controller for gas control, 100 sccm
可视窗口: 45mm dia.
显示屏: 7" touch screen, PC Interface
编程控制: Upto 10 receipies with 10 steps can
压力测量: Pirani Gauge