产品优点
微米和亚微米光刻 (zui小可达到0.6um线宽)
紫外光直写曝光,无需掩模，大幅节约了掩模加工费用
灵活性高，可直接通过电脑设计光刻图形，并可根据设计要求随意调整。
可升级开放性系统设计。
按照客户要求可从低端到高端自由配置
使用维护简单, 设备耗材价格低。
应用范围广，目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。
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| 型号 | SF-100 XCEL | SF-100 XPRESS | SF-100 XTREME | ||||||||
光学系统 | 标准光学 系统 | 高分辨率光学系统 | 高分辨率光学系统 | 高分辨率光学系统 | |||||||
| 缩小透镜 | None | 3X | 任选一个 | 任选一个 | 标配以下3种缩小透镜 | ||||||
| 4X | 10X | 20X | 4X | 10X | 20X | 4X | 10X | 20X | |||
像素尺寸 (标准配置) | 15um | 5um | 1.25um | 0.5um | 0.25um | 1.25um | 0.5um | 0.25um | 1.25um | 0.5um | 0.25um |
特征尺寸 (标准配置) | 45um | 15um | 5um | 2um | 1um | 5um | 2um | 1um | 5um | 2um | 1um |
像素尺寸 (配置Sub-micron) | - | - | 0.936um | 0.390um | 0.188um | 0.936um | 0.390um | 0.188um | 0.936um | 0.390um | 0.188um |
特征尺寸 ((配置Sub-micron) | - | - | 0.8um | 1.17um | 0.60um | 2.8um | 1.17um | 0.60um | 2.8um | 1.17um | 0.60um |
套刻精度Overlay accuracy (样品台配置 theta 方向运动) | - | - | +/-2.5um | +/-1.0um | +/-0.5um | +/-2.5um | +/-1.0um | +/-0.5um | +/-2.5um | +/-1.0um | +/-0.5um |
| 样品台 | 无 | 自动 XYZ 线性驱动样品台。 XY 行程: 60, 100, 150, 200, 300mm可选, Z 行程5mm 或 25mm可选 | |||||||||
或选配手动螺杆驱动样品台 XY 行程100mm, Z 行程 25mm | 可选配 theta 方向运动 | theta 方向运动为标准配置 | |||||||||
或选配自动线性驱动样品台 XY 行程100mm, Z 行程 25mm | - | - | |||||||||
设备尺寸 | 44" W x 26"D x 30"H | 60"W x 26"D x 36"H 或, 44"W x 26"D x 30"H | 60"W x 26"D x 36"H | ||||||||
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