| 型号 | C12562-04 |
| 可测膜厚范围（玻璃） | 500 nm to 300 μm*1 |
| 测量可重复性（玻璃） | 0.02 nm*2 *3 |
| 测量准确性（玻璃） | ±0.4 %*3 *4 |
| 光源 | Halogen light source |
| 光斑尺寸 | Approx. φ1 mm*3 |
| 工作距离 | 10 mm*3 |
| 可测层数 | Max. 10 layers |
| 分析 | FFT analysis, Fitting analysis, Optical constant analysis |
| 测量时间 | 3 ms/point*5 |
| 光纤连接头 | FC |
| 外部控制功能 | RS-232C, Ethernet |
| 电源 | AC100 V to AC240 V, 50 Hz/60 Hz |
| 功耗 | Approx. 80 VA |
*1 转换时玻璃的折射率是1.5
*2 测量400 nm玻璃薄膜厚度时为标准偏差（公差）
*3 取决于光学系统或物镜放大倍数
*4 测量保证范围同VLSI标准测量保证文件一致
*5 最短曝光时间
● 测量范围从薄膜厚度到总厚度
● 缩短循环时间（最大100 Hz）
● 外部触发器增强（适用于高速测量）
● 系统中新增简化测量法
● 可进行表面分析
● 非恒定膜层的精确测量
● 分析光学常数（n, k）
● 可外部控制
C12562型光学纳米膜厚测量系统是一款小型紧凑、节省空间、安装方便的非接触式薄膜厚测量系统。在半导体工业中，硅通孔技术的普及使得硅厚度测量变得必不可少；在薄膜生产工业中，越来越高的产品需求使得粘合层薄膜的制作朝着越来越薄的方向发展。因此，这些工业领域需要更高精度、测量范围可以覆盖1μm到300μm的厚度测量系统。C12562可以对厚度范围从0.5μm到300μm的薄膜进行精确测量，包括薄膜镀层厚度和薄膜衬底厚度以及总厚度。C12562可以进行高达100 Hz的快速测量，因此非常适合高速生产线测量。
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