氮氧化硅薄膜的研究进展

氮氧化硅薄膜材料具有优异的热力学介电及光学性能 ,在微电子光学器件等方面有着重要应用其 主要制备方法包括化学气相沉积溅射直接氮化/氧化及离子植入综述了该类材料的制备方法和应用研究进展 , 并指出了制备方法和应用研究的发展方向 TEM用氮化硅薄膜窗口 上海昭沅