北京先锋泰坦科技有限公司
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膜厚测量仪FE-300

膜厚量测仪FE-300的特点
  • 测试范围涵盖薄膜到厚膜
  • 基于JD反射率光谱分析膜厚
  • 小型・低价，精度高
  • 无复杂设定，操作简单，短时间内即可上手
  • 外观新颖，操作性提高
  • 非线性*小二乘法，实现光学常数解析（n：折射率、k：消光系数）
对应膜种
○ 多层膜 ○ 折射率倾斜
○ 非干涉膜 ○ 超晶格结构
用途
○ 光学薄膜（ARfilm、ITO等）
○ FPD相关（ITO、PI、PC、CF等）
测量项目
多层膜厚解析
JD反射率测量
光学常数解析（n：折射率k:消光系数）
测量实例
式样
型号 FE-300V FE-300UV FE-300NIR *1
本体 标准型 薄膜型 厚膜型 厚膜型（高分辨率）
样品尺寸 *大 8 寸晶圆（ 厚度 5 mm ）
测量膜厚范围（ｎｄ值） 100 nm ～ 40 μm 10 nm ～ 20 μm 3 μｍ ～ 300 μm 15 μｍ ～ 1.5 mm
测量波长范围 450 nm ～ 780 nm 300 nm ～ 800 nm 900 nm ～ 1600 nm 1470 nm ～ 1600 nm
测量精度 ± 0.2 nm 以内 *2 ± 0.2 ｎｍ 以内 *2 - -
重复精度 0.1 nm 以内 *3 0.1 nm 以内 *3 - -
测量时间 0.1 s ～ 10 s 以内
光斑直径 约 φ 3 mm
光源 卤素灯 氙灯与卤素灯 卤素灯 卤素灯
通讯接口 USB
尺寸，重量 280（W) × 570（D） × 350（H） mm、 约 24 kg
软件功能
标准 波峰波谷解析、FFT解析、*适化法解析、*小二乗法解析
选配功能 材料评价软件、薄膜模型解析软件、标准片解析
*1 细规格请咨询
*2 相对于VLSI 公司产膜厚标准（100nm SiO2/Si）的膜厚保证书记载的测量保证值范围
*3 VLSI 公司产膜厚标准（100nm SiO2/Si）的同一点反复测量时的扩张不确定度（包括因子2.1）
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