Gatan 精密刻蚀镀膜系统PECS II 685

产品功能介绍
　　Gatan公司的精密刻蚀镀膜仪 (PECS™) II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。

技术特点：
　　精密刻蚀镀膜仪 (PECS™) II，采用两个宽束氩离子束对样品表面进行抛光，去除损失层，从而得到高质量的样品，用于在SEM、光镜或者扫描电子探针上进行成像、EDS，EBSD，CL，EBIC或者其他分析，另外将这两支离子枪对准靶材溅射，可用来对样品做导电金属膜沉积处理，以防止样品在电镜中发生荷电效应。
　　这款仪器被设计为不破坏真空，不将样品新鲜表面暴露在大气中，即可对抛光样品进行处理。样品的装卸是通过一个专门设计的装样工具在真空交换舱中完成。
　　两支具有更大电压范围的小型潘宁离子枪，可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果，用于样品的抛光。低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持一致。每个离子枪都能准确独立地进行对中。在仪器运行过程中，离子枪的角度可随时进行调整。离子枪的气流可在触摸屏上通过手动方式或者自动方式进行调整， 用于优化离子枪的工作电流。
　　PECS II样品台采用液氮制冷方式。可以有效的保护样品，避免离子束热损伤，消除可能的假象。
　　集成的10英寸彩色触摸屏计算机可对PECS II系统的所有操作参数进行完全控制。此界面不仅可以设定所有参数并能够监控抛光过程。所有的操作参数还可以存为配方，调用配方可获得高精度重复实验。
　　涡轮分子泵搭配两级隔膜泵保证了超洁净环境。通过Gatan的样品装卸工具能实现快速样品交换（< 1min），这样就能保证换样过程中加工舱室始终处在高真空状态。

图片说明：（A）PECSII 抛光的样品表面的二次电子像，显示出高度孪晶的晶粒（B）PECSII抛光后的锆合金的菊池花样（C）EBSD欧拉角分布图（D）IPFZ面分而战。照片由牛津大学材料学院AngusWilkin-son 教授和Hamidreza Abdolvand 博士提供。数据是在配有BrukerQuantax EBSD系统的Zeiss Merlin Compact扫描电镜上采集。

技术参数：
离子源
*离子枪两支配有稀土磁铁的潘宁离子枪，高性能无耗材
*抛光角度±10°, 每支离子枪可独立调节
离子束能量100 eV 到 8.0 keV
离子束流密度10 mA/cm2 峰值
离子束直径可用气体流量计或放电电压来调节

样品台
样品大小：较大直径 32mm， 大高度 15mm
样品装载： 对于截面样品抛光采用 Ilion™ II ZG的样品挡板，二次再加工位置精确。
样品抛光及镀膜功能：兼具有平面抛光、截面抛光及溅射镀膜功能，靶材数：2个
靶材切换：无需破坏真空，可直接切换
样品旋转：1 到 6 rpm 可调
束流调制：角度可调的单束调制或双束调制

真空系统
干泵系统80 L/s 的涡轮分子泵配有两级隔膜泵
压力5 x 10-6 torr 基本压力
8 x 10-5 torr 工作压力
真空规冷阴极型，用于主样品室；固体型，用于前级机械泵
*样品空气锁WhisperlokZG技术，无需破坏主样品室真空即可装卸样品，样品交换时间 < 1 min
用户界面
*10 英寸触摸屏操作简单，且能够完全控制所有参数和配方式操作
*操作界面语言：提供中文、英文等多种选择

产品主要应用领域：
EBSD样品制备
截面样品制备
金属材料（合金，镀层）
石油地质岩石矿物
光电材料
化工高分子材料
新能源电池材料