英国VacCoat 系列离子溅射仪

VacCoat公司
Vac Coat有限公司是高质量定制物理气相沉积（PVD）系统的设计者和制造商，客户服务和售后服务出色。拥有25年以上真空和薄膜沉积技术经验。其研发团队在学界科学家和zi深工程师的支持下，高度积极地开发新设计以满足客户的特殊要求。

Vac Coat的工程团队设计和制造的组件符合高质量标准。Vac Coat的真空镀膜机系统已通过遍布全球的分销商销往许多大学和研究zhong心，并得到了很好的参考和反馈。

1、DSR1

仪器描述：
该产品为台式磁控溅射镀膜机，能够在非导电或导电不良的样品上涂布金（Au），钯（Pd），铂（Pt）和金/钯（Au / Pd）的薄膜。 在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜，使样品适用于扫描电子显微镜（SEM）分析。仪器结构紧凑，全自动控制，设计符合人体工程学，所得结果一致，可重复性高。

产品特点：

• 7’’彩色触摸屏：数据输入简单快速

• 通过触摸屏中直观检测数据和曲线；历史页面可显示300个历史涂层信息。
• 可控镀膜速率，可得到更精细的晶粒结构
• 可手动或自动，根据时间或根据厚度进行溅射
• 可联网更新用户友好软件

• 可配高精度石英晶体厚度监测仪（精度可达1nm）

• 样品台更换简单：标准旋转样品台或选用行星式旋转样品台。标准样品台高度可调、可倾斜、可旋转；行星式旋转样品台为多孔样品带来更好的喷金效果。

• 可通过USB端口将曲线和沉积过程数据传输到PC

• 符合CE标准

产品参数：

• 2英寸磁控管阴极

• 两级直驱4m3/h旋片机械泵

• Pyrex样品仓：外径170mm，高140mm，

• 尺寸：50(W) x 37(D) × 45(H) Cm

• 运输重量（包括真空泵）：42kg

• 电源：220V-240V，50 / 60HZ-10A

• 极限真空度：小于40 mTorr

• 电子控制快门

• 电子控制真空阀

2、DCR

仪器描述：
DCR是一台结构紧凑的台式镀碳仪。可用于扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）和能谱分析（EDX）制样。

 

产品特点：
• 可进行Flash式或Pulsed式镀碳：Pulsed脉冲式镀碳：短脉冲提供了更加可控的沉积方式，与传统镀碳相比，碎屑显著减少

• 7’’彩色触摸屏：数据输入简单快速；真空度、电流、厚度等镀膜参数可通过触摸屏中的数据或曲线直观监测；历史页面可显示300个历史涂层信息。
• 可联网更新用户友好软件
• 可记录和绘制涂层参数图表

 • 可配高精度石英晶体厚度监测仪（精度可达1nm）

• 样品台更换简单：标准旋转样品台或选用行星式旋转样品台。标准样品台高度可调、可倾斜、可旋转；行星式旋转样品台为多孔样品带来更好的喷金效果。

• 可通过USB端口将曲线和沉积过程数据传输到PC

• 符合CE标准

产品参数：

1、真空泵：二极直驱旋片机械泵（4m3/h)

2、极限真空度：小于50 mTorr

3、Pyrex 样品仓：外径170mm，140mm，

4、0-25A脉冲直流开关电源

5、尺寸：450 x 500 x 370 mm (H x W x D)

6、电源：220V-240V，50 / 60HZ-10A

7、电子控制快门

8、精密真空压力控制阀

9、USB数据传输端口

10、运输重量：46kg

3、DSCR

仪器描述：
DSCR型台式多功能镀膜仪，是一台紧凑型涂布系统，集离子溅射系统和镀碳系统于一体。该系统能够在不导电或导电性差的样品上溅射金（Au）、钯（Pd）、铂（Pt）和金/钯（Au/Pd）等贵金属，并且可以在样品上镀上碳膜。
DSCR是一台多功能扫描电子显微镜制样设备。全自动操作选项使得即使是初学者，也可以轻松使用系统，形象的用户友好软件，简化了对沉积信息的感知。

 

产品特点：
• 精密可复制涂层：可重复膜厚沉积
• 高分辨率精细涂层（金颗粒可达2nm）
• 低压溅射
• 无需冷却系统
• 可进行Flash式或Pulsed式镀碳：Pulsed脉冲式镀碳：短脉冲提供了更加可控的沉积方式，与传统镀碳相比，碎屑显著减少可使用双碳纤维蒸镀，用于厚层沉积
• 易于操作：7’’彩色触摸屏直观控制涂布过程，数据输入简单快速
• 用户友好的全自动及半自动控制软件
• 可配高精度石英晶体厚度监测仪（精度可达1nm）
• 样品台更换简单：标准旋转样品台或选用行星式旋转样品台。标准样品台高度可调、可倾斜、可旋转；行星式旋转样品台为多孔样品带来更好的喷金效果。
• 可通过USB端口将曲线和沉积过程数据传输到PC
• 符合CE标准

 

产品参数：
1、真空泵：二极直驱旋转机械泵（4m3/h)
2、Pyrex 样品仓：外径170mm，140mm，
3、仪器尺寸：45（H）x50（W）37×（D）Cm
4、2英寸磁控管阴极
5、极限真空度：小于50 mTorr
6、电子控制快门
7、自动控制泄露阀
8、电源：220V-240V, 50/60HZ- 10A
9、80W直流开关电源
10、运输重量：42kg

4、DST1-170

产品描述：
DST1-170是一台结构紧凑的台式磁控离子溅射仪。适用于金属材料溅射，包括惰性金属以及氧化性金属，DST1-170配有直径为2英寸的磁控管阴极。在较短时间内即可形成晶粒尺寸均匀的薄膜。
DST1-170高真空溅射仪，可提供高质量的均匀薄膜，具有较细的晶粒尺寸，十分适用于样品的高分辨和高品质表征，如FE-SEM、EDS/WDS、TEM和EBSD，也可应用于科研和各种薄膜的应用研究中，如：纳米和微电子、太阳能电池应用、光学元件涂层合薄膜传感器等。

产品特点：
• 高真空涡轮泵90 L/S（Leybold）+二级旋片式真空泵的前级泵，为仪器提供了洁净的高真空，减少了污染。

• 涂层速率可控，可获得更细的晶粒结构

• 可手动或自动，根据时间或根据厚度进行溅射

• 7’’彩色触摸屏：数据输入简单快速；真空度、电流、厚度等镀膜参数可通过触摸屏中的数据或曲线直观监测；历史页面可显示300个历史涂层信息。

• 触摸屏直观地控制涂布过程，数据输入简单快速

• 可通过网络更新的用户友好软件

• 可记录和绘制涂层参数图

• 可配高精度石英晶体厚度监测仪（精度可达1nm）

• 样品台更换简单：标准旋转样品台或选用行星式旋转样品台。标准样品台高度可调、可倾斜、可旋转；行星式旋转样品台为多孔样品带来更好的喷金效果。

• 可通过USB端口将曲线和沉积过程数据传输到PC

• 符合CE标准

产品参数：

1、高真空涡轮泵90 L/S（Leybold）

2、二极直驱旋片机械泵（4m3/h)

3、极限真空：小于5x10-6 Torr

4、独立于压力自动控制溅射功率

5、全量程真空计（Leybold）

6、ISO-KF 63蝶形阀

7、80 W直流电源

8、电子控制快门

9、电控氩气泄漏阀

10、设施：220V-240V，50/60HZ-16A

11、运输重量：36kg

5、DCT

产品描述：
DCR是一台装有涡轮泵的碳镀仪，可提供细粒度均匀的高质量碳膜，适用于需要高分辨率和高质量表征的样品，尤其适合FE-SEM，EDS/WDS，TEM，EBSD和薄膜应用研究等。

产品特点：
• 可进行Flash式或Pulsed式镀碳：Pulsed脉冲式镀碳：短脉冲提供了更加可控的沉积方式，与传统镀碳相比，碎屑显著减少
• 7’’彩色触摸屏：数据输入简单快速；真空度、电流、厚度等镀膜参数可通过触摸屏中的数据或曲线直观监测；历史页面可显示300个历史涂层信息。
• 可联网更新用户友好软件
• 可记录和绘制涂层参数图表

 • 可配高精度石英晶体厚度监测仪（精度可达1nm）

• 样品台更换简单：标准旋转样品台或选用行星式旋转样品台。标准样品台高度可调、可倾斜、可旋转；行星式旋转样品台为多孔样品带来更好的喷金效果

• 可通过USB端口将曲线和沉积过程数据传输到PC

• 可选用碳棒蒸发源及适配大电流电源

• 符合CE标准

产品参数：

1、高真空涡轮分子泵90 l/s Leybold

2、二级旋片式真空泵作为分子泵前级泵

3、全量程真空计

4、真空仓：外径170mm，140mm

5、0-25A脉冲直流开关电源

6、极限真空度：小于50×10-6 Torr

7、尺寸：450 x 500 x 370 mm (H × W × D)

8、电源：220V-240V，50 / 60HZ-10A

9、用于精确控制真空压力的精密计量阀

10、电子控制快门

11、涂层参数实时图

12、USB数据传输端口

13、运输重量：46kg

6、DSCT

产品描述：
DSCT是一台多功能的涂布系统，集溅射镀膜机和纤维碳镀膜机于一体：在一台仪器中具有可互换的磁头。
DSCT高真空镀膜机，可提供晶粒尺寸很细的高质量均匀薄膜，适用于需要高分辨率和高质量表征的样品，如FE-SEM、EDS/WDS、TEM和EBSD。
DSCT具有2''磁控管阴极，80w直流开关电源和碳蒸发大电流电源，也可用于科研及不同薄膜的应用研究中。
 

产品特点：
• 高真空涡轮泵90 L/S（Leybold）+二级旋片式真空泵的前级泵，为仪器提供了洁净的高真空，减少了污染。

• 涂层速率可控，可获得更细的晶粒结构
• 可进行Flash式或Pulsed式镀碳：Pulsed脉冲式镀碳：短脉冲提供了更加可控的沉积方式，与传统镀碳相比，碎屑显著减少
• 可手动或自动，根据时间或根据厚度进行溅射
• 7’’彩色触摸屏：数据输入简单快速；真空度、电流、厚度等镀膜参数可通过触摸屏中的数据或曲线直观监测；历史页面可显示300个历史涂层信息。
• 触摸屏直观地控制涂布过程，数据输入简单快速
• 可通过网络更新的用户友好软件
• 可记录和绘制涂层参数图
• 可配高精度石英晶体厚度监测仪（精度可达1nm）
• 样品台更换简单：标准旋转样品台或选用行星式旋转样品台。标准样品台高度可调、可倾斜、可旋转；行星式旋转样品台为多孔样品带来更好的喷金效果。
• 可通过USB端口将曲线和沉积过程数据传输到PC
• 符合CE标准

产品参数：
1、极限真空：小于5×10-6 Torr
2、独立于压力自动控制溅射速率
3、用于精确控制真空压力的精密质量流量计（MFC）
4、可通过USB端口将曲线和沉积过程数据传输到PC
5、设施：220V-240V，50/60HZ-16A
6、运输重量：42kg

整体型号的选型：

仪器特点

VacCoat拥有离子溅射喷金仪、镀碳仪，以及集喷金与镀碳于一体的型号，用户可根据不用应用，选择高真空以及低真空的不同型号。
VacCoat镀膜仪，可提供晶粒尺寸很细的高质量均匀薄膜，十分适用于高分辨率和高质量样品的表征。
•喷金系统具有2''磁控管阴极，磁控建设，减少样品的损伤；
•镀碳系统配备80w直流开关电源和碳蒸发大电流电源，也可用于科研及不同薄膜的应用研究中。
•镀碳系统可进行Flash式或Pulsed式镀碳：Pulsed脉冲式镀碳：短脉冲提供了更加可控的沉积方式，与传统镀碳相比，碎屑显著减少
•高真空型号配备涡轮分子泵90 l/s Leybold
•使用二级旋片式真空泵作为分子泵前级泵
•配有全量程真空计
•可选用高精度石英晶体厚度监测器，测厚精度可达1nm。
•触摸屏直观地控制涂布过程，数据输入简单快速
•可通过网络更新的用户友好软件
•可控涂层速率，可获得更细的晶粒结构
•可手动或自动，根据时间或根据厚度进行溅射，建设操作灵活简便
•可记录和绘制涂层参数图
•配备电控快门
•样品台更换简单：标准样品架，高度可调可选转；也可选用适合多孔样品的行星式旋转样品架