扫描电镜在陶瓷纳米粉体中的应用
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图1 SEM的技术特点总结
SEM发明于1937年,并于1965年被广泛使用。随后推出的场发射扫描电镜兼顾了高分辨、大视野和高景深的特点,在陶瓷纳米粉体的表征上有重要的应用价值。但是,通常电镜的加速电压≥5 kV,入射电子束会在绝缘样品表面产生过多的电子或空穴,形成不稳定电场,在显微图像上显示为明暗相间的条纹或畸曲的图像,通常被称为荷电效应或充电效应。
荷电效应不仅降低图像分辨率,而且严重影响了对样品的形貌、成分和结构信息的获取。荷电效应会导致纳米粉体的图像出现畸变,为减轻荷电效应而采取的镀膜方法也难免会遮盖粉体本身的形貌。
如何拍摄陶瓷纳米粉体?-Apreo2的成像策略
而扫描电镜Apreo2在低加速电压上做的性能优化,非常适合陶瓷纳米粉体的拍摄。以下是Apreo2镜筒的设计示意图及镜筒内信号示意图。
图5 Apreo2镜筒设计示意图及镜筒内信号示意图
Apreo2设计了三位探测器(T1/T2/T3),充分利用了镜筒内的丰富信号。T1探测器靠近极靴的位置,可以对非导电、易电子束损伤有机样品的进行高分辨BSE成像,即使在<3PA的束流,也能够保持高信噪比。T2探测器可以不镀金对非导电样品的高分辨成像、而且可以在大工作距离下保持(WD=10mm)高分辨成像,WD=10mm的工作距离可以兼顾能谱的分析。T3主要针对导电样品的高分辨成像,以及平整样品的电位衬度成像。
以下是Apero2拍摄陶瓷纳米粉体的案例。
纳米级Al2O3粉末具有超塑性,可以制备低温塑性氧化铝陶瓷;也可满足多层电容器的电子陶瓷元件的厚度要求小于10μm;也可作为极薄的透明涂料,喷涂在诸如玻璃、塑料、金属、漆器、大理石上;也可以分散在金属中,提高铝的强度。
1931年Kister通过水解水玻璃的方法S次制备出气凝胶.纳米量级颗粒相互聚合形成的连续三维网络结构,多孔非晶态。二氧化硅气凝胶复合材料可用在隔热保温材料、催化剂及载体、声阻抗耦合材料等领域。
研磨前(左图)和研磨后(右图)对比,研磨后的颗粒为20nm左右,可以对砂磨机的研磨效果进行评估。
为什么说Apreo2的T1和T2探测器能够轻松实现陶瓷纳米粉体的高分辨观察?
要回答这个问题前,我们要讨论电荷效应产生的原因及寻找E2平衡点的便捷性。首先,在常规的实际电镜操作中,为消除荷电效应,需要极大的耐心寻找 E2 值来维持电荷平衡,且不同电压来回切换需要重新合轴和消像散,导致测试效率不高,因此,单纯通过寻找平衡电压来消除荷电效应的方法存在诸多限制。第二,电荷特别容易集中在正光轴的位置,如果镜筒内的探测器施加偏压,就特别容易把电荷信号一并收集过来。
图10 电荷效应产生示意图及电荷信号发射方向示意图(沿正光轴位置Z强)
而T2探测器位置设计,无偏压吸引电子信号(包括荷电效应的电子信号),可以Z大程度的避开了沿中轴方向的荷电信号,同时保持了较高的信噪比。这样,就把过去需要寻找的E2平衡点,拓宽成一个平衡范围,操作上就非常轻松。这也是T2探测器能轻松拍摄陶瓷纳米粉体的原因之一。
扫描电镜低电压技术的概念虽然早在 1960 年就被提出,但是在2000年后才开始大规模应用。说明低电压技术本身存在很多限制因素。低电压时入射电子束能量较低,带来信号产生区小、更能反映表面信息等一系列优点,但是也受制于电子光学,比如更明显的衍射效应和较大的色差。
在考虑空间分辨率时,较小的信号产生区会有益于分辨率的提高,而电子光学对束斑的限制则阻碍了分辨率的提高。通过减小工作距离可以减小物镜的色差和球差系数,仍能获得较高分辨率的图像,但是该措施存在极限和限制。如果在整个光路上,电子束持续保持在恒定的低能量,衍射差和色差带来束斑的扩展还是无可避免地妨碍分辨率的提升,所以,在电子光学和镜筒设计上,现代高分辨扫描电镜采用了诸多优化措施,而场发射扫描电镜Apreo2 无疑是其中杰出的代表。
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