北京和同创业科技有限责任公司
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磁控溅射仪JS-1600M

一、产品应用:

JS-1600M型磁控溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。

二、配置及技术指标:

1.本系统装配了水冷却磁控靶,靶面直径为50mm

2.主机规格:L360mm*W300mm*H380mm

3.靶(上部电极):金:直径:50mm,厚度:0.1mm

4.真空样品室: 直径:160mm,高:120mm

5.溅射面积: Ф50mm

6.真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar

7.离子电流表: 最大电流:100mA

8.定时器: 最长时间:3600S

9.微型真空气阀: 可连接φ3mm软管

10.可通入气体: 多种

11.最高电压: -1600 DCV

12.机械泵: 2L/S

三、产品特点

1.轻便、溅射面积大

2.可以溅射铂、金及银等金属

3.溅射效率高,可水冷降温


4磁控溅射仪JS-1600M产品样册

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