徕卡显微系统(上海)贸易有限公司
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徕卡低真空镀膜仪 Leica EM ACE200

样品进行扫描电镜观察前,通常需要对其表面镀一层金属膜,以便减少观察时产生的荷电,并增强二次电子或背散射电子信号,获得更好的信噪比。

Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪,可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能,或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求,也可用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等全过程,一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制,简单方便。

主要技术参数:

可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式,或者双模式,可选辉光放电(用于网格表面亲水化)

ZL设计脉冲式碳丝蒸发方式,可精确控制碳膜厚度

可选石英膜厚检测器,精确控制镀膜厚度,精度达0.1nm

全自动程序控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等过程

触摸屏控制,简单方便

真空度7×10-3mbar

溅射电流:0-150mA可调

方形样品仓ZL设计,样品仓尺寸:140mm(宽)×145mm(深)×150mm(高)

工作距离调节范围:30mm-100mm


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