沈阳科晶自动化设备有限公司
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VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪

VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪配备有三个靶枪和三个电源,一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜,一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜,可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
1、配置三个靶枪,两个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜,应用广泛。
3、体积小,操作简便。

产品名称

VTC-600-3HD-1000双靶磁控溅射仪

产品型号
VTC-600-3HD-1000
主要参数

1、输入电源:220V/50Hz 
2、溅射靶数量:3
3、腔体内径:Ø300mm
4、靶枪冷却方式:水冷 
5、极限真空度:7.4E-5pa 
6、真空室规格:Φ300×330 mm 
7、真空系统:VRD-16机械泵 FF-100/150涡轮分子泵 
8、恢复真空:系统从大气抽至5.0E-3pa≤30 min(系统短时间暴露大气) 
9、充气系统:2路质量流量计(1路氩气100scc、1路氩气200scc)特殊气体可定制 
10、溅射靶规格:Φ2",厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同) 
11、样品台:Φ70mm//可加热(室温~1000℃) 

产品规格


主机尺寸:宽900mm×深650mm×高1100mm


VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪配备有三个靶枪和三个电源,一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜,一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜,可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
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