微波真空烧结炉-沈阳科晶自动化设备有限公司

详细信息

ZK型微波真空烧结炉是标准化多功能微波高温真空实验工作站，适用于各种气氛条件下的合成、焙烧、热处理、烧结等工艺研究。尤能实现微波真空合成或烧结，并可对易受气氛影响的实验提供更为精细的气氛控制。1、采用工业级微波源，微波输出功率无级可调，确保设备连续稳定长时间运行。
2、配置二级真空机组和二路气氛控制系统，可为样品实验提供高真空或精细气氛条件。
3、各种的坩埚和保温结构供选择，对物料无污染。
4、大幅度提高实验效率，物料加热速度快，均匀性好，烧结材料晶粒小，性能好。

产品型号

ZK型微波真空烧结炉

主要特点

1、采用工业级微波源，微波输出功率无级可调，确保设备连续稳定长时间运行。

2、配置二级真空机组和二路气氛控制系统，可为样品实验提供高真空或精细气氛条件。

3、各种的坩埚和保温结构供选择，对物料无污染。

4、大幅度提高实验效率，物料加热速度快，均匀性好，烧结材料晶粒小，性能好。

技术参数

型号	ZK4516	ZK6016
电压	380±10V 50Hz 三相	380±10V 50Hz 三相
额定功率	13KW	15KW
微波输出功率	0.01～4.20kW 连续可调	0.01～5.60kW 连续可调
微波频率	2.45GHz	2.45GHz
工作温度	气氛保护下≤1600℃ 真空条件下≤1500℃	气氛保护下≤1600℃ 真空条件下≤1500℃
加热空间	Φ150×120mm(直径×高)	Φ180×150mm(直径×高)
测温方式	红外测温仪	红外测温仪
测温范围及精度	300～1800℃；读数±0.1%	300～1800℃；读数±0.1%
静态极限真空度	≤10-3Pa	≤10-3Pa
气氛系统	二路气氛控制管路；可充氧化气体、惰性气体、还原气体等，持续保持高真空	二路气氛控制管路；可充氧化气体、惰性气体、还原气体等，持续保持高真空
加热平台旋转密封	磁流体	磁流体
加热平台旋转速率	4-6rpm	4-6rpm
控制方式	PLC（品牌：三菱）触摸屏（品牌：施耐德）	PLC（品牌：三菱）触摸屏（品牌：施耐德）
控制程序	40段可设工艺参数，带数据存储，导出实验数据；可手动、自动、恒温控制模式，曲线实时显示；动态数据屏保；一键式自动高真空启动	40段可设工艺参数，带数据存储，导出实验数据；可手动、自动、恒温控制模式，曲线实时显示；动态数据屏保；一键式自动高真空启动
气动控制	控制气动真空挡板阀门	控制气动真空挡板阀门
防微波泄漏	微波泄露水平＜0.5mW/cm2	微波泄露水平＜0.5mW/cm2
磁控管报警	超温报警、过流报警	超温报警、过流报警
炉门防护报警	炉门关紧开关	炉门关紧开关
冷却水报警	流量报警	流量报警
移动式循环冷却水	流量2m3/h，额定制冷量5.2KW	流量2m3/h，额定制冷量5.2KW
主体部分	约2100×1600×2000mm（长×宽×高）	约2100×1600×2000mm（长×宽×高）