全自动金相磨抛系统

UNIPOL-1210M型全自动金相磨抛系统，包含自动镶嵌、研磨抛光以及清洗单元，可以实现从镶嵌-取样-研磨-清洗-抛光-清洗一体的全程序化自动流程，通过触摸屏操作可精确控制镶嵌到磨抛、清洗的所有参数，并能进行参数设定存档，并可一键启动程序，从而实现样品自动化操作的一致性。且镶嵌、磨抛、清洗单位均可以单独或搭配灵活使用，适用于金属、陶瓷、岩样、电子器件等材料的重复性和一致性实验，以及需要大批量制样的材料研究行业工作者。1、全自动镶嵌+研磨拋光+清洗一次完成，节省人力。具有6个镶嵌工位，最多同时完成6个试样。
2、可单独使用镶嵌或磨抛单元，也可镶嵌/磨抛单元合并使用，灵活搭配。
3、镶嵌压力、温度、时间可任意调整，随材质的不同变化。
4、镶嵌完成后，自动抓取样品进行研磨拋光。过程中可自动更换不同粒度的研磨砂纸和抛光垫。
5、研磨时，气动单点加压样品，施力平均。
6、研磨时，研磨盘上盘和下盘转速可任意调整，具有低转速高扭力的特点，方便使用。
7、气压压力通过节流阀控制和调整，根据样品不同材质，任意调整所需压力。
8、配备多组滴料装置，搭配使用，灵活性高。
9、整机外壳钢板烤漆，耐用安全性高。
10、方便的触控式人机操作界面，具备可编程的软件系统及程序储存。
11、包含多种材料数据库，可满足对金属、陶瓷、岩样、电子器件等材料的重复性和一致性实验。
12、通过超声和高压水流实现对样品进行清洗，确保下一道工序不会被上一道工序残留物污染。

产品名称	UNIPOL-1210M型全自动金相磨抛系统
产品型号	UNIPOL-1210M
主要参数	1、镶嵌单元	-单次热镶嵌个数：6个 -热镶嵌直径：30mm（高度不大于35mm） -驱动方式：全自动电动液压 -加热温度：180℃ -加热时间：1-30min -冷却时间：1-30min -加热功率：1200w -单工位压紧力：220kg
	2、研磨抛光单元	-研磨抛光盘采用真空吸附方式 -研磨抛光盘数量：1个 -研磨抛光盘尺寸：φ300mm -研磨抛光盘转速：50-500rpm -载样盘孔径：φ30mm -载样盘转速：10-60rpm -多点中心加载压力，通过节流阀控制和调整压力 -单个样品ZD加载力：1-5kg
	3、储料单元	-通过程序设置自动更换研磨砂纸和抛光垫 -最多可储存16组磨片和抛光片，更换顺序可设定 -通过真空吸附固定在研磨抛光盘上 -通过程序可设置研磨/抛光时间和次数
	4、清洗单元	-配备进水和排水 -配备超声清洗 -配备高压水流清洗 -配备废料回收装置
	5、研磨抛光液配备	-水、研磨膏×1 -悬浮液×2 -预留1通道
	6、其他	-镶嵌完成后，研磨头自动抓取试样至研磨抛光盘 -研磨过程中自动更换不同粒度的砂纸（粗磨、细磨） -抛光过程中自动更换对应材质的抛光垫 -自动滴加所需水或研磨抛光液 -自动抓取试样到清洗单元清洗 -触摸操作屏实时显示各工序状态 -以上内容均可通过设置参数完成并储存，一键启动