等离子体辅助原子层沉积系统 PEALD

※ 广泛应用于光学薄膜、铜互连、MEMS、TSV、高k介质 层、金属栅电极（metal gate）等应用。 

※ 原子级别的薄膜沉积。 

※ 沉积参数高度可控性：厚度、成分和结构。 

※ 优异的薄膜均匀性和一致性。 

※ 薄膜台阶覆盖率高