※ 适用于沉积多种难以制备的薄膜,如高温超导薄膜、陶瓷 氧化物薄膜、多层金属薄膜等。
※ 沉积速率高。
※ 可以精密控制薄膜厚度和成分。
※ 衬底温度要求低。
※ 适用于各种靶材。
※ 选配RHEED在线检测系统。
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