科睿设备有限公司
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无掩模光刻机,激光直写系统

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※ 主要应用:MEMS、先进封装、化合物半导体、光电器 件、光电显示、生物芯片、3D结构等微米级和亚微米级图 形,尤其在厚胶、碎片、边缘曝光等特殊工业有明显优 势。 

※ 可用于0.3um线宽及以上的光刻工艺。 

※ 支持单面对准、双面对准及套刻工艺。 

※ XY移动范围100mm-300mm,Z轴移动范围25mm, 360度样品旋转。 

※ 其他尺寸需客户定制。

光刻工艺是半导体工艺Z关键的步骤之一,用于图形定义,直接决定半导体整线 工艺的水平。
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