※ 主要应用:MEMS、先进封装、化合物半导体、光电器 件、光电显示、生物芯片、3D结构等微米级和亚微米级图 形,尤其在厚胶、碎片、边缘曝光等特殊工业有明显优 势。
※ 可用于0.3um线宽及以上的光刻工艺。
※ 支持单面对准、双面对准及套刻工艺。
※ XY移动范围100mm-300mm,Z轴移动范围25mm, 360度样品旋转。
※ 其他尺寸需客户定制。
科睿设备有限公司
仪器网(yiqi.com)--仪器行业网络宣传传媒
网站导航
选购仪器 上yiqi.com
仪器网络推广品牌网上传播